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J-GLOBAL ID:200903063951751453
反射防止層を基材に形成する方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
泉名 謙治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993298106
Publication number (International publication number):1995151904
Application date: Nov. 29, 1993
Publication date: Jun. 16, 1995
Summary:
【要約】【構成】非結晶性の含フッ素重合体からなる薄膜材料の液または非結晶性の含フッ素重合体からなる薄膜材料を含む溶液または分散液をダイコート法により基材にコーティングすることを特徴とする薄膜材料の光干渉による反射防止層を基材に形成する方法。【効果】本発明方法は連続生産性に優れ、薄膜の膜厚偏差が小さい反射防止層を基材に容易に形成することができる。
Claim (excerpt):
薄膜材料の液または薄膜材料を含む溶液または分散液をダイコート法により基材にコーティングすることを特徴とする薄膜材料の光干渉による反射防止層を基材に形成する方法。
IPC (3):
G02B 1/11
, B05D 5/06
, C08J 7/04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
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特開平3-068985
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特開平2-019801
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反射防止層を有する光学物品
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-307825
Applicant:旭硝子株式会社
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反射防止層を有する光学物品
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-307826
Applicant:旭硝子株式会社
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特開平3-068987
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特開平4-093979
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特開平4-204686
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ホログラム形成シートの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-202947
Applicant:大日本印刷株式会社
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ホログラム形成シートの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-202948
Applicant:大日本印刷株式会社
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帯電防止膜及び低屈折率低反射膜及び低反射帯電防止膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-267161
Applicant:旭硝子株式会社
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低反射帯電防止膜の製造方法及び低反射帯電防止膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-267164
Applicant:旭硝子株式会社
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特開平4-338262
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特開平4-118076
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