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J-GLOBAL ID:200903063951751453

反射防止層を基材に形成する方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 泉名 謙治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993298106
Publication number (International publication number):1995151904
Application date: Nov. 29, 1993
Publication date: Jun. 16, 1995
Summary:
【要約】【構成】非結晶性の含フッ素重合体からなる薄膜材料の液または非結晶性の含フッ素重合体からなる薄膜材料を含む溶液または分散液をダイコート法により基材にコーティングすることを特徴とする薄膜材料の光干渉による反射防止層を基材に形成する方法。【効果】本発明方法は連続生産性に優れ、薄膜の膜厚偏差が小さい反射防止層を基材に容易に形成することができる。
Claim (excerpt):
薄膜材料の液または薄膜材料を含む溶液または分散液をダイコート法により基材にコーティングすることを特徴とする薄膜材料の光干渉による反射防止層を基材に形成する方法。
IPC (3):
G02B 1/11 ,  B05D 5/06 ,  C08J 7/04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
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