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J-GLOBAL ID:200903064045423038
陰イオン吸着剤再生装置およびそれを用いた陰イオン吸着剤の再生方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
秋元 輝雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006208188
Publication number (International publication number):2008029985
Application date: Jul. 31, 2006
Publication date: Feb. 14, 2008
Summary:
【課題】使用済みのハイドロタルサイト様化合物から、吸着性能を劣化させることなくハイドロタルサイト様化合物を経済的に容易に再生できる陰イオン吸着剤再生装置の提供。【解決手段】陰イオンを吸着させたハイドロタルサイト様化合物を水溶液で処理し、陰イオンを前記水溶液側に脱着する脱着装置、前記水溶液から前記ハイドロタルサイト様化合物を分離する分離装置、分離後、無機酸を含む酸性水溶液に添加して溶解する溶解装置、3価金属化合物および/または2価金属化合物を添加して前記酸性水溶液中の3価金属イオンおよび2価金属イオンのモル濃度を必要に応じて調整する金属イオン調整装置、前記酸性水溶液に、炭酸塩を除く、水溶液にした時にアルカリ性を呈するアルカリ金属の化合物およびアルカリ土類金属の化合物を含む水溶液を加えて中和することにより吸着能を有するハイドロタルサイト様化合物を生成させる生成装置を備える。【選択図】図1
Claim (excerpt):
所定の陰イオン吸着能を有するハイドロタルサイト様化合物に陰イオンを吸着させた前記ハイドロタルサイト様化合物を、吸着した陰イオンをイオン交換して脱着可能な化合物の水溶液で処理し、吸着した陰イオンを前記水溶液側に脱着する脱着装置と、
陰イオンを脱着した前記ハイドロタルサイト様化合物を含む前記水溶液から前記ハイドロタルサイト様化合物を分離する分離装置と、
分離した前記ハイドロタルサイト様化合物を、無機酸からなる群から選択される少なくとも1種を含む酸性水溶液に添加して実質的に溶解する溶解装置と、
前記酸性水溶液に必要量の3価金属化合物および/または2価金属化合物を添加して前記酸性水溶液中の3価金属イオンおよび2価金属イオンのモル濃度を必要に応じて調整する金属イオン調整装置と、
分離した前記ハイドロタルサイト様化合物を無機酸からなる群から選択される少なくとも1種を含む酸性水溶液に添加して実質的に溶解して得られた前記酸性水溶液あるいは金属イオンのモル濃度を調整した前記酸性水溶液に、アルカリ金属およびアルカリ土類金属の炭酸塩を除く、水溶液にした時にアルカリ性を呈するアルカリ金属の化合物およびアルカリ土類金属の化合物からなる群から選択される少なくとも1種を含む水溶液を加えて中和することにより所定の陰イオン吸着能を有するハイドロタルサイト様化合物を生成させる生成装置と、
前記生成装置で生成した所定の陰イオン吸着能を有するハイドロタルサイト様化合物を分離・精製する分離・精製装置とを
少なくとも備えたことを特徴とする陰イオン吸着剤再生装置。
IPC (5):
B01J 20/34
, B01J 20/12
, B01J 41/02
, B01J 49/00
, C01F 7/00
FI (6):
B01J20/34 G
, B01J20/12 A
, B01J41/02
, B01J49/00 E
, B01J49/00 T
, C01F7/00 C
F-Term (23):
4G066AA66B
, 4G066BA31
, 4G066CA21
, 4G066CA28
, 4G066CA32
, 4G066CA41
, 4G066CA46
, 4G066CA50
, 4G066DA08
, 4G066FA05
, 4G066GA11
, 4G076AA04
, 4G076AA09
, 4G076AA10
, 4G076AB04
, 4G076AB06
, 4G076AB09
, 4G076BA24
, 4G076BA25
, 4G076BA26
, 4G076CA02
, 4G076CA40
, 4G076DA28
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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特公昭50-30039号公報
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ハイドロタルサイトの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-120274
Applicant:旭電化工業株式会社
-
ハイドロタルサイトの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-211213
Applicant:宇部マテリアルズ株式会社
-
パターン形成方法および半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-393038
Applicant:株式会社東芝
-
リンの回収方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-127296
Applicant:富田製薬株式会社
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