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J-GLOBAL ID:200903064217329160
汚水処理設備
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
小谷 悦司
, 植木 久一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002177121
Publication number (International publication number):2004016969
Application date: Jun. 18, 2002
Publication date: Jan. 22, 2004
Summary:
【課題】嫌気消化に先立って前処理を施しても、放流水の水質を高く維持できる汚水処理設備を提供する。【解決手段】汚水を活性汚泥処理するための曝気槽2と、この曝気処理液から活性汚泥を分離するための沈殿池3と、この沈殿池3から分離除去された汚泥を消化しやすくするための前処理槽5と、前処理した汚泥を嫌気消化するための分解槽と、前記分解槽の処理物を脱水するための脱水装置と、この脱水装置からの脱水液を前記沈殿池に戻すための返送ラインとを備えた設備において、前記脱水液を活性汚泥処理するための曝気手段と、曝気処理した液から活性汚泥を分離除去するための膜分離手段とを備えた浄化装置を、前記脱水装置と返送ラインとの間に挿設する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
汚水を活性汚泥処理するための曝気槽と、この曝気処理液から活性汚泥を分離するための沈殿池と、この沈殿池から分離除去された汚泥を消化しやすくするための前処理槽と、前処理した汚泥を嫌気消化するための分解槽と、前記分解槽の処理物を脱水するための脱水装置と、この脱水装置からの脱水液を前記沈殿池に戻すための返送ラインとを備えた設備において、
前記脱水液を活性汚泥処理するための曝気手段と、曝気処理した液から活性汚泥を分離除去するための膜分離手段とを備えた浄化装置が、前記脱水装置と返送ラインとの間に挿設されている汚水処理設備。
IPC (7):
C02F3/12
, C02F1/44
, C02F11/00
, C02F11/04
, C02F11/06
, C02F11/12
, C02F11/18
FI (8):
C02F3/12 S
, C02F1/44 K
, C02F11/00 Z
, C02F11/04 Z
, C02F11/06 B
, C02F11/12 D
, C02F11/12 E
, C02F11/18
F-Term (41):
4D006GA02
, 4D006HA41
, 4D006HA93
, 4D006JA02Z
, 4D006KA01
, 4D006KA12
, 4D006KA72
, 4D006KB13
, 4D006KB20
, 4D006KC03
, 4D006KC14
, 4D006MA03
, 4D006MA22
, 4D006MB02
, 4D006MC84
, 4D006PA02
, 4D006PB08
, 4D006PB70
, 4D006PC64
, 4D028AB00
, 4D028BC18
, 4D028BC22
, 4D028BC24
, 4D028BC28
, 4D059AA06
, 4D059BA11
, 4D059BA26
, 4D059BC02
, 4D059BE08
, 4D059BE25
, 4D059BE38
, 4D059BE49
, 4D059BF02
, 4D059BF12
, 4D059BF14
, 4D059BK11
, 4D059BK12
, 4D059BK22
, 4D059BK30
, 4D059CA22
, 4D059DA43
Patent cited by the Patent: