ハーフトーン型位相シフトマスクおよびブランク

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000198705
Publication number (International publication number)：2002014458
Application date： Jun. 30, 2000
Publication date： Jan. 18, 2002
Summary：

【要約】【課題】ガラス基板上に露光光に対して透明な領域と、位相および透過率が制御された半透明膜領域を設けたハーフトーン型位相シフトマスクの製造に用いられる半透明膜層を有するブランクに於いて、露光波長の短波長化や高透過率化に対応できるハーフトーン型位相シフトマスク及びブランクを提供する。【解決手段】半透明膜層に含まれる主要構成金属元素に対するシリコン元素の含有比率が、それら2元素が構成し得るシリサイド化合物のうち最もシリコンの含有比率が高い化学量論比率よりも、シリコンの含有比率が高くなっていることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

ガラス基板上に露光光に対して透明な領域と、位相および透過率が制御された半透明膜領域を設けたハーフトーン型位相シフトマスクの製造に用いられる半透明膜層を有するブランクに於いて、半透明膜層に含まれる主要構成金属元素に対するシリコン元素の含有比率が、それら2元素が構成し得るシリサイド化合物のうち最もシリコンの含有比率が高い化学量論比率よりも、シリコンの含有比率が高くなっていることを特徴とするブランク。

F-Term (1)：

2H095BB03

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

スパッタリングタ-ゲット
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-075142 Applicant：凸版印刷株式会社
位相シフトマスクの製造方法、及び位相シフトマスクブランクの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-060925 Applicant：ホーヤ株式会社
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-274429 Applicant：凸版印刷株式会社

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