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J-GLOBAL ID：200903064752087460

ガス噴射ヘッド

Inventor： 堀江 邦明 ,  村上 武司 ,  中田 勉
Applicant, Patent owner： 株式会社荏原製作所
Agent (1)： 熊谷 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997049677
Publication number (International publication number)：1998226886
Application date： Feb. 17, 1997
Publication date： Aug. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】 原料ガスと酸化ガスの混合を好適なタイミングで効率よく行なうことのできるガス噴射ヘッドを提供すること。【解決手段】 平板状のノズル本体に設けた多数のノズル孔を通して原料ガスと酸化ガスを均一に分配する薄膜気相成長装置に用いるガス噴射ヘッドであって、前記ノズル孔は後段ノズル孔11-1と前段ノズル孔12-1の2段に分かれ該後段ノズル孔11-1と前段ノズル孔12-1の中間位置に別のガスが流入するガス流入部(空隙15から流入)を設け、該後段ノズル孔11-1の部分で混合を行なう。

Claim (excerpt)：

平板状のノズル本体に設けた多数のノズル孔を通して原料ガスと酸化ガスを均一に分配する薄膜気相成長装置に用いるガス噴射ヘッドであって、前記酸化ガスと原料ガスの混合を前記ノズル孔部で行なうことを特徴とするガス噴射ヘッド。

IPC (3)：

C23C 16/44 ,  C23C 16/40 ,  F15D 1/08

FI (3)：

C23C 16/44 D ,  C23C 16/40 ,  F15D 1/08 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 反応ガス噴射ヘッド及び薄膜気相成長装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-168040   Applicant：株式会社荏原製作所
• ECRプラズマCVD装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-160597   Applicant：株式会社神戸製鋼所

Cited by examiner (2)

• 反応ガス噴射ヘッド及び薄膜気相成長装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-168040   Applicant：株式会社荏原製作所
• ECRプラズマCVD装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-160597   Applicant：株式会社神戸製鋼所