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J-GLOBAL ID：200903064790966086

ガス反応器

Inventor： 林 佑二 ,  スティーブン エル シューブ ,  松本 泰重 ,  比屋根 正雄 ,  田辺 秀二
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社 ,  本田技研工業株式会社 ,  北辰工業株式会社 ,  ザ ユニバーシティ オブ コネティカット
Agent (1)： 伊東 忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997218763
Publication number (International publication number)：1999000552
Application date： Aug. 13, 1997
Publication date： Jan. 06, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明は、プラズマ反応と触媒反応とのシナジー効果に基づいて、ガス合成を行うガス反応器を提供することを目的とする。【解決手段】ガス反応器は、誘電体材料で形成され第1のガスをある方向に流すための第1の管を構成する誘電体容器と、誘電体容器の内部の略中心に方向に沿って位置される第1の電極と、第1の電極の表面に設けられる少なくとも一つの触媒層と、誘電体容器の外壁を囲む第2の電極と、第1の電極と第2の電極との間にAC電力を印加することで誘電体容器の内部にグロー放電を生成する電源ユニットを含む。

Claim (excerpt)：

誘電体材料で形成され第1のガスをある方向に流すための第1の管を構成する誘電体容器と、該誘電体容器の内部の略中心に該方向に沿って位置される第1の電極と、該第1の電極の表面に設けられる少なくとも一つの触媒層と、該誘電体容器の外壁を囲む第2の電極と、該第1の電極と該第2の電極との間にAC電力を印加することで該誘電体容器の内部に放電を生成する電源ユニットを含むことを特徴とするガス反応器。

IPC (8)：

B01J 19/08 ,  B01D 53/87 ,  B01J 19/24 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 1/04 ,  C07C 9/04 ,  C07C 29/50 ,  C07C 31/04

FI (8)：

B01J 19/08 C ,  B01J 19/24 A ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 1/04 ,  C07C 9/04 ,  C07C 29/50 ,  C07C 31/04 ,  B01D 53/36 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 特開平3-275119
  
• 低濃度NOx含有ガスの処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-167708   Applicant：株式会社日立製作所
• ガス浄化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-080745   Applicant：富士通株式会社
• ガス浄化装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-097783   Applicant：北辰工業株式会社, 富士通株式会社
• 絶縁膜形成方法及びそれに用いる装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-309155   Applicant：川崎製鉄株式会社
• 排ガス処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-332852   Applicant：三菱重工業株式会社
• 特公昭36-008923