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J-GLOBAL ID：200903064836565960

フォトレジスト用感光性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法

Inventor：
宮川 堅次

About 宮川 堅次

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吉武 淳也

About 吉武 淳也

, 
瀬古 健治

About 瀬古 健治


Applicant, Patent owner：
関西ペイント株式会社

About 関西ペイント株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999346218
Publication number (International publication number)：2001166470
Application date： Dec. 06, 1999
Publication date： Jun. 22, 2001
Summary：
【要約】【課題】 感光性及び加工性に優れたフォトレジスト用感光性樹脂組成物を提供する。【解決手段】下記成分(A)(a)1分子中に平均1個の水酸基と平均1個のエポキシ基を含有する数平均分子量74〜500のエポキシ化合物1モルに対して、1分子中に平均1個のカルボキシル基と平均1個のエチレン性不飽和基を含有する数平均分子量78〜2000のカルボキシル基含有エチレン性不飽和モノマー0.8〜1.2モルを反応させてなる水酸基含有不飽和化合物、(b)カルボキシル基含有ジオール、(c)ジイソシアネート化合物、(d)必要に応じてポリオール化合物を反応させてなる酸価20〜300mgKOH/g、不飽和度0.2〜5.0モル/kg、及び数平均分子量400〜100,000の不飽和基含有ウレタン樹脂及び(B)光重合開始剤を含有することを特徴とするフォトレジスト用感光性樹脂組成物。
Claim (excerpt)：
下記成分(A)(a)1分子中に平均1個の水酸基と平均1個のエポキシ基を含有する数平均分子量74〜500のエポキシ化合物1モルに対して、1分子中に平均1個のカルボキシル基と平均1個のエチレン性不飽和基を含有する数平均分子量78〜2000のカルボキシル基含有エチレン性不飽和モノマー0.8〜1.2モルを反応させてなる水酸基含有不飽和化合物、(b)カルボキシル基含有ジオール、(c)ジイソシアネート化合物、(d)必要に応じてポリオール化合物を反応させてなる酸価20〜300mgKOH/g、不飽和度0.2〜5.0モル/kg、及び数平均分子量400〜100,000の不飽和基含有ウレタン樹脂及び(B)光重合開始剤を含有することを特徴とするフォトレジスト用感光性樹脂組成物。
IPC (3)：
G03F 7/027 513 ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/004 512
FI (3)：
G03F 7/027 513 ,  G03F 7/027 515 ,  G03F 7/004 512
F-Term (18)：
2H025AA01 ,  2H025AA13 ,  2H025AB15 ,  2H025AB17 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC66 ,  2H025BC74 ,  2H025BC81 ,  2H025BC83 ,  2H025BC85 ,  2H025BC86 ,  2H025BC92 ,  2H025BJ10 ,  2H025CA00 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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