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J-GLOBAL ID：200903065067402693

透明性樹脂、感光性組成物、およびパターン形成方法

Inventor： 後河内 透 ,  浅川 鋼児 ,  沖野 剛史 ,  信田 直美 ,  中瀬 真 ,  早瀬 留美子 ,  川門前 善洋
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997272534
Publication number (International publication number)：1998171120
Application date： Oct. 06, 1997
Publication date： Jun. 26, 1998
Summary：

【要約】【課題】 短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつコントラストが高く露光後のアルカリ溶解性にも優れ、解像性の良好なレジストパターンを形成し得る感光性組成物を提供する。【解決手段】 脂環式骨格および共役多縮合芳香族骨格の少なくとも一方を主鎖に有し、かつ主鎖が酸で分解または加水分解し得るオリゴマーと、光酸発生剤とを含有する感光性組成物である。

Claim (excerpt)：

脂環式骨格および共役多縮合芳香族骨格の少なくとも一方を主鎖に有しかつ主鎖が酸で分解または加水分解し得るオリゴマーと、光酸発生剤とを含有する感光性組成物。

IPC (8)：

G03F 7/038 504 ,  C08G 18/34 ,  C08G 63/12 ,  C08G 69/26 ,  C08L 67/00 ,  C08L 77/06 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (8)：

G03F 7/038 504 ,  C08G 18/34 Z ,  C08G 63/12 ,  C08G 69/26 ,  C08L 67/00 ,  C08L 77/06 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 珪素含有高分子化合物及びそれを用いたレジスト材 料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-203126   Applicant：日本電気株式会社
• 感光性組成物及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-153045   Applicant：ソニー株式会社
• 特開昭53-133429
  
• ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-041718   Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社

Cited by examiner (4)

• 珪素含有高分子化合物及びそれを用いたレジスト材 料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-203126   Applicant：日本電気株式会社
• 感光性組成物及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-153045   Applicant：ソニー株式会社
• 特開昭53-133429
  
• ポジ型レジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-041718   Applicant：信越化学工業株式会社, 日本電信電話株式会社