改質方法及びその装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：浅井章弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997130259
Publication number (International publication number)：1998079380
Application date： May. 02, 1997
Publication date： Mar. 24, 1998
Summary：

【要約】【課題】金属酸化膜の絶縁耐圧を短時間で向上させることができる改質装置を提供する。【解決手段】被処理体Wの表面に形成された金属酸化膜を改質する金属酸化膜の改質装置2において、真空引き可能になされた処理容器4と、この処理容器内へ収容される被処理体を載置する載置台14と、オゾン或いはN2Oガスを含む処理ガスを前記処理容器内へ供給する処理ガス供給手段47と、前記処理容器内の雰囲気中に紫外線を照射して活性酸素原子を生ぜしめる紫外線照射手段62と、前記処理容器内を真空引きする真空排気系12とを備えるように構成する。これにより、真空雰囲気下で活性酸素原子を生ぜしめ、この寿命を高めることによって密度も高め、迅速な改質処理を実現する。

Claim (excerpt)：

被処理体の表面に形成された金属酸化膜を改質する金属酸化膜の改質装置において、真空引き可能になされた処理容器と、この処理容器内へ収容される被処理体を載置する載置台と、オゾン或いはN2Oガスを含む処理ガスを前記処理容器内へ供給する処理ガス供給手段と、前記処理容器内の雰囲気中に紫外線を照射して活性酸素原子を生ぜしめる紫外線照射手段と、前記処理容器内を真空引きする真空排気系とを備えるように構成したことを特徴とする改質装置。

IPC (2)：

H01L 21/31 , H01L 21/316

FI (2)：

H01L 21/31 C , H01L 21/316 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平2-283022
化学気相成長装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-060513 Applicant：富士通株式会社
特開平4-285173

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