光記録媒体

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：渡辺勝 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998341725
Publication number (International publication number)：2000158818
Application date： Dec. 01, 1998
Publication date： Jun. 13, 2000
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】波長400nm〜500nmのレーザーで良好な記録および再生が可能な追記型光記録媒体を提供する。【解決手段】基板上に少なくとも記録層と反射層を有する光記録媒体において、記録層中に下記一般式(1)で示されるベンゾビスオキサ/チアゾール化合物を含有する光記録媒体。【化1】〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、Z1、Z2、Z3、Z4はそれぞれ明細書記載の置換基を示し、環A、環Bはそれぞれ独立にオキサゾール環、またはチアゾール環を表す。〕

Claim (excerpt)：

基板上に少なくとも記録層および反射層を有する光記録媒体において、記録層中に一般式(1)で示されるベンゾビスオキサ/チアゾール化合物を含有する光記録媒体。【化1】〔式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換または無置換のアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基、アルキルチオ基、アラルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アラルキルアミノ基、アリールアミノ基、アルケニルアミノ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、複素環基を表し、環A、環Bはそれぞれ独立にオキサゾール環、またはチアゾール環を表し、Z1、Z2、Z3、Z4はそれぞれ独立に置換または無置換のアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アリール基を表す。あるいは、Z1とZ2、Z3とZ4は互いに連結して環を形成しても良い。〕

IPC (3)：

B41M 5/26 , G11B 7/24 516 , C09B 23/00

FI (4)：

B41M 5/26 Y , G11B 7/24 516 , C09B 23/00 L , C09B 23/00 M

F-Term (23)：

2H111EA03 , 2H111EA12 , 2H111EA22 , 2H111EA32 , 2H111EA40 , 2H111EA48 , 2H111FA01 , 2H111FA12 , 2H111FB42 , 4H056CA02 , 4H056CA05 , 4H056CB05 , 4H056CB06 , 4H056CC05 , 4H056CD05 , 4H056CE03 , 4H056CE07 , 4H056DD19 , 4H056DD23 , 4H056EA16 , 4H056FA05 , 5D029JA04 , 5D029JC17

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (14)

光記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-265936 Applicant：ソニー株式会社
光記録媒体及び光記録再生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-098500 Applicant：ソニー株式会社
特開平4-074690

電界発光素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-041934 Applicant：株式会社リコー

特開平4-194022

芳香族ポリチアゾール薄膜及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-076307 Applicant：本田技研工業株式会社

特表平5-508106

特表平5-508683

特表昭55-500440

メチン化合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-278022 Applicant：富士写真フイルム株式会社

ベンゾビスオキサゾール化合物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-280699 Applicant：三井化学株式会社

ベンゾビスオキサゾール類の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-248237 Applicant：大和化成工業株式会社

電子写真用感光体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-101292 Applicant：三菱化学株式会社

特開昭50-062224

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