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J-GLOBAL ID：200903065354971020

マイクロ波プラズマ発生方法、マイクロ波プラズマ発生装置および前記装置を使用してダイヤモンド薄膜を製造する方法

Inventor：
永津 雅章

About 永津 雅章


Applicant, Patent owner：
財団法人浜松科学技術研究振興会

About 財団法人浜松科学技術研究振興会


Agent (1)： 井ノ口 壽
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003145863
Publication number (International publication number)：2004346385
Application date： May. 23, 2003
Publication date： Dec. 09, 2004
Summary：
【課題】同一真空容器内に複数のランチャを配置して単一のプラズマボールに起因するプラズマボールを発生することにより高い密度で、より広いプラズマ発生領域を得ることができるマイクロ波プラズマ発生方法、装置を提供する。【解決手段】本発明による方法は、真空容器1内に一対のランチャを対向して配置し、プラズマ生成用のガスを前記対向するランチャ間に導入し、前記各ランチャにマイクロ波電力を供給してプラズマボール15を発生させるマイクロ波プラズマ発生方法である。上側の電極板3uをもつランチャからマイクロ波電力を供給しプラズマボールを発生させるステップと、さらに上下のランチャからのマイクロ波電力を次第に増加して、前記プラズマボールの形状の拡大と密度の増加をするステップとを含んでいる。前記方法を実施するための装置、前記方法によりダイヤモンド薄膜を製造する方法も提供する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
真空容器内に一対のランチャを対向して配置し、プラズマ生成用のガスを前記対向するランチャ間に導入し、前記各ランチャにマイクロ波電力を供給してプラズマを発生させるマイクロ波プラズマ発生方法であって、 上側のランチャからマイクロ波電力を供給しプラズマボールを発生させるステップと、および 上下のランチャからのマイクロ波電力を次第に増加して、前記プラズマボールの形状の拡大と密度の増加をするステップと、を含むマイクロ波プラズマ発生方法。
IPC (6)：
C23C16/511 ,  B01J3/00 ,  C23C16/27 ,  H01L21/205 ,  H01L21/314 ,  H05H1/46
FI (6)：
C23C16/511 ,  B01J3/00 J ,  C23C16/27 ,  H01L21/205 ,  H01L21/314 A ,  H05H1/46 B
F-Term (19)：
4K030AA09 ,  4K030AA17 ,  4K030BA28 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030EA06 ,  4K030FA01 ,  4K030JA07 ,  5F045AA09 ,  5F045AB07 ,  5F045AC08 ,  5F045DP03 ,  5F045DQ10 ,  5F045EH03 ,  5F058BA12 ,  5F058BC14 ,  5F058BF08 ,  5F058BF26 ,  5F058BJ01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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