基板保持台、及びプラズマ処理装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：宮川貞二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998341916
Publication number (International publication number)：2000173988
Application date： Dec. 01, 1998
Publication date： Jun. 23, 2000
Summary：

【要約】【課題】フォーカスリングの表面のスパッタによる試料の金属汚染(アルミ汚染)をさらに低減することができ、試料の処理の均一化を実現することができる基板保持台、及びこの基板保持台を備えるプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】高周波電力が印加され、被処理物である基板を載置する電極と;電極の周囲に、電極を包囲して配置される絶縁体のフォーカスリングと;電極に載置される基板の外側に配置され、基板と同程度または基板以上の導電性を有する材料で形成されるエッジリングと;エッジリングの外側に配置され、かつフォーカスリングの上方に空隙を介して配置されるカバー部品とを備え;カバー部品は、プラズマがフォーカスリングに照射されないように構成され、基板に対して汚染を発生させない材料で形成されていることを特徴とする基板保持台、及びこの基板保持台を備えるプラズマ処理装置とする。

Claim (excerpt)：

高周波電力が印加され、被処理物である基板を載置する電極と;前記電極の周囲に、前記電極を包囲して配置される絶縁体のフォーカスリングと;前記電極に載置される基板の外側に配置され、前記基板と同程度または前記基板以上の導電性を有する材料で形成されるエッジリングと;前記エッジリングの外側に配置され、かつ前記フォーカスリングの上方に空隙を介して配置されるカバー部品とを備え;前記カバー部品は、前記プラズマが前記フォーカスリングに照射されないように構成され、前記基板に対して汚染を発生させない材料で形成されていることを特徴とする基板保持台。

IPC (4)：

H01L 21/3065 , C23C 16/44 , C23F 4/00 , H05H 1/46

FI (4)：

H01L 21/302 B , C23C 16/44 B , C23F 4/00 A , H05H 1/46 B

F-Term (24)：

4K030CA04 , 4K030DA04 , 4K030FA01 , 4K030GA02 , 4K030KA14 , 4K030KA20 , 4K030KA30 , 4K030KA32 , 4K030KA45 , 4K030KA46 , 4K057DA20 , 4K057DD01 , 4K057DM06 , 4K057DM18 , 4K057DM29 , 4K057DN01 , 5F004AA16 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BB23 , 5F004BB29 , 5F004BD01 , 5F004BD04 , 5F004DA23

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

ドライエツチング装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-302578 Applicant：日電アネルバ株式会社
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-047104 Applicant：日本電気株式会社
プラズマ発生装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-118299 Applicant：三菱電機株式会社

Show all

Return to Previous Page