Pat
J-GLOBAL ID：200903065578646302

膜パターンの形成方法、膜パターン形成装置、導電膜配線、電気光学装置、電子機器、並びに非接触型カード媒体

Inventor：
長谷井 宏宣

About 長谷井 宏宣


Applicant, Patent owner：
セイコーエプソン株式会社

About セイコーエプソン株式会社


Agent (1)： 上柳 雅誉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002130833
Publication number (International publication number)：2003324266
Application date： May. 02, 2002
Publication date： Nov. 14, 2003
Summary：
【要約】【課題】 厚膜化を図ることができ、導電膜とした場合に断線や短絡等の不具合が生じにくい膜パターンの形成方法及び膜パターン形成装置を提供する。【解決手段】 膜パターン形成装置は、吐出手段10から液体材料を液滴Lnにして吐出し、その液滴Lnを一定の距離ごとに基板11上に配置する。この液滴Lnの配置動作を、液滴Lnの配置を開始する開始位置をずらしながら繰り返す。
Claim (excerpt)：
吐出手段から液体材料を液滴にして吐出して、基板上に膜パターンを形成する方法であって、前記吐出手段から吐出した前記液滴を、一定の距離ごとに基板上に配置する工程を有し、前記液滴の配置を開始する開始位置をずらしながら、前記工程を繰り返すことを特徴とする膜パターンの形成方法。
IPC (3)：
H05K 3/10 ,  H01L 21/288 ,  H01L 21/3205
FI (3)：
H05K 3/10 D ,  H01L 21/288 Z ,  H01L 21/88 B
F-Term (39)：
4M104AA01 ,  4M104BB04 ,  4M104BB05 ,  4M104BB07 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB36 ,  4M104CC01 ,  4M104DD51 ,  4M104DD78 ,  4M104DD80 ,  4M104DD81 ,  4M104GG20 ,  4M104HH14 ,  5E343AA02 ,  5E343BB23 ,  5E343BB24 ,  5E343BB25 ,  5E343BB44 ,  5E343BB48 ,  5E343BB72 ,  5E343DD12 ,  5E343DD18 ,  5E343FF05 ,  5E343GG06 ,  5F033HH00 ,  5F033HH07 ,  5F033HH11 ,  5F033HH13 ,  5F033HH14 ,  5F033HH40 ,  5F033PP26 ,  5F033QQ00 ,  5F033QQ73 ,  5F033QQ82 ,  5F033QQ83 ,  5F033RR22 ,  5F033VV00 ,  5F033XX03
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
Show all
Cited by examiner (6)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM