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J-GLOBAL ID:200903065798252402
Qスイッチレーザ
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
高田 守 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994213843
Publication number (International publication number):1996078762
Application date: Sep. 07, 1994
Publication date: Mar. 22, 1996
Summary:
【要約】【目的】 レーザ共振器内のレーザ光エネルギー密度を光学部品の損傷しきい値以下として、レーザの取り出し効率の高いQスイッチレーザを得る。【構成】 飽和フルエンスに対する損傷内最大エネルギー密度の比をDとし、レーザの取り出し効率をηとしてこれを改題になるよう定めた場合、Qスイッチの共振器内の損失をL、上記共振器の出力結合量をTとすると、D≦2、0.05≦L≦0.2、0.5≦T、0.3D≦ηの値を同時に満足するよう構成した。
Claim (excerpt):
Qスイッチレーザにおいて、飽和フルエンスに対する損傷共振器内最大エネルギー密度の比を用いてこれをDとし、レーザの取り出し効率をηとしてこれを最大になるよう定めた場合、Qスイッチの共振器内の損失をL、上記共振器の出力結合量をTとすると、D≦2、0.05≦L≦0.2、0.5≦T、0.3D≦ηの値を同時に満足するよう構成されたQスイッチレーザ。
IPC (3):
H01S 3/08
, H01S 3/11
, H01S 3/16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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Qスイッチレーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-012048
Applicant:三菱電機株式会社
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固体レーザ用多結晶透明YAGセラミックスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-091150
Applicant:黒崎窯業株式会社
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特開平4-254786
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特開平4-076975
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特開平4-275475
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複数波長レーザ光を用いた気相光化学反応装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-329886
Applicant:新日本製鐵株式会社, 新日鐵化学株式会社, 新技術事業団
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