基板の洗浄装置および洗浄方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高田守 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001016964
Publication number (International publication number)：2002222787
Application date： Jan. 25, 2001
Publication date： Aug. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】基板に付着したレジスト変質層の除去を促進させる洗浄装置および洗浄方法を得る。【解決手段】洗浄用薬液を満たす処理槽1に、超音波発振器3と、洗浄用薬液2中に浸漬される被洗浄基板4を保持する保持具5とを備え、被洗浄基板の裏面に超音波発振器からの超音波を照射し被洗浄基板の表面を洗浄する。

Claim (excerpt)：

洗浄用薬液を満たす処理槽と、この処理槽の中に配置され前記洗浄用薬液中に浸漬される超音波発振器と、前記洗浄用薬液中に浸漬される被洗浄基板を保持しこの被洗浄基板の裏面に前記超音波発振器からの超音波が照射されるようにした保持具とを備えたことを特徴とする基板の洗浄装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 642 , H01L 21/304 , B08B 3/12

FI (3)：

H01L 21/304 642 E , H01L 21/304 642 F , B08B 3/12 A

F-Term (7)：

3B201AA03 , 3B201AB53 , 3B201BA12 , 3B201BB02 , 3B201BB23 , 3B201BB83 , 3B201BB94

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平4-286119
超音波処理槽と枚葉式基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-012473 Applicant：富士通株式会社
基板処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-305606 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社

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