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J-GLOBAL ID：200903065851296530

電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物

Inventor： 青合 利明 ,  阿出川 豊 ,  八木原 盛夫
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000219253
Publication number (International publication number)：2002040656
Application date： Jul. 19, 2000
Publication date： Feb. 06, 2002
Summary：

【要約】【課題】 電子線又はX線を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、電子線又はX線の使用に対して感度と解像度、レジスト形状の特性を満足する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 電子線又はX線の照射により、ラジカル種を発生する化合物、水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、及び特定のモノマーを含有する電子線又はX線用ネガ型化学増幅系レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)電子線又はX線の照射により、ラジカル種を発生する化合物、(B)水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、(C)ラジカルにより重合可能な不飽和結合を少なくとも1個有する化合物、を含有することを特徴とする電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物。

IPC (7)：

G03F 7/038 501 ,  G03F 7/038 502 ,  C08F 2/44 ,  C08F 2/54 ,  C08F290/00 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (7)：

G03F 7/038 501 ,  G03F 7/038 502 ,  C08F 2/44 C ,  C08F 2/54 ,  C08F290/00 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (32)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BC03 ,  2H025BC13 ,  2H025BC19 ,  2H025BC42 ,  2H025BC83 ,  2H025BC86 ,  2H025CA48 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB45 ,  4J011PA65 ,  4J011QA03 ,  4J011QA12 ,  4J011QA22 ,  4J011QB01 ,  4J011UA03 ,  4J011UA04 ,  4J027AA08 ,  4J027BA07 ,  4J027BA19 ,  4J027BA20 ,  4J027BA22 ,  4J027BA24 ,  4J027BA26 ,  4J027CA21 ,  4J027CD10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 放射線感応性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-074959   Applicant：沖電気工業株式会社
• 感光性樹脂組成物、電子線硬化性樹脂組成物、及びそれらの硬化物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-340141   Applicant：株式会社日本触媒
• 感光性樹脂組成物とそれを用いた絶縁フィルム及び多層配線板
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-130924   Applicant：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-042742   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• ネガ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-314816   Applicant：富士写真フイルム株式会社