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J-GLOBAL ID:200903035209901491
放射線感応性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
船橋 國則
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995074959
Publication number (International publication number):1996272099
Application date: Mar. 31, 1995
Publication date: Oct. 18, 1996
Summary:
【要約】【目的】 放射線に対して高感度な放射線感応性樹脂組成物を提供することおよび高解像性のパターンを形成すること。【構成】 放射線感応性樹脂組成物は、第1のアルカリ可溶性樹脂と、アルケニルエーテル基を有する第2のアルカリ可溶性樹脂と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤とを含んで構成される。この放射線感応性樹脂組成物を用いてパターン形成する場合には、放射線感応性樹脂組成物を基体上に塗布して塗膜を形成し、次いでこの塗膜に、選択的に放射線を照射した後、塗膜を加熱処理する。そして塗膜を現像してパターンを形成する。
Claim (excerpt):
第1のアルカリ可溶性樹脂と、アルケニルエーテル基を有する第2のアルカリ可溶性樹脂と、放射線の照射により酸を発生する酸発生剤とを含有することを特徴とする放射線感応性樹脂組成物。
IPC (4):
G03F 7/038 505
, G03F 7/004 503
, G03F 7/38 511
, H05K 3/06
FI (4):
G03F 7/038 505
, G03F 7/004 503
, G03F 7/38 511
, H05K 3/06 H
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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改良された加工特性を有するポジ型フォトレジスト
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-339657
Applicant:チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト, オーシージーミクロエレクトロニクスインコーポレーテッド
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特開平3-130774
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特開平3-130773
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レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-021250
Applicant:日本ゼオン株式会社
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特開平4-246651
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感光性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-270972
Applicant:沖電気工業株式会社
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放射線感応性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-158387
Applicant:沖電気工業株式会社
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レジストパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-138901
Applicant:シャープ株式会社
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ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-319742
Applicant:日本合成ゴム株式会社
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