光導波路及びその製造方法並びに光回路

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：光石俊郎 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996227907
Publication number (International publication number)：1998068833
Application date： Aug. 29, 1996
Publication date： Mar. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】光通信、光信号処理、光計測分野に用いられる光導波路及びその製造方法、並びに該光導波路を有する1.3μm帯及び1.55 μm帯等における信号光の例えば光合分波回路、波長選択回路、レーザ光源回路、方向性結合器、マッハツェンダ干渉計、レリーフ型ブラッググレーティング等の光回路を提供する。【解決手段】平面基板上に形成された光を伝搬する溝加工により形成してなるコア15と、該コア15より屈折率の低いクラッド層16とにより構成される光導波路であって、前記コア15の上面部にフォトポリマ材料からなるクラッド層16を構成してなる。

Claim (excerpt)：

平面基板上に形成された光を伝搬するコアと、該コアより屈折率の低いクラッドとにより構成される光導波路の製造方法において、前記平面基板上に下部クラッド層を形成した後、該下部クラッド層にコアとなる溝構造を形成し、前記コアを前記溝構造を形成した下部クラッド層の上に形成した後、石英系コア層の溝部分以外を除去し、前記コアを含む部分の上部にフォトポリマ材料による上部クラッド層を形成することを特徴とする光導波路の製造方法。

IPC (3)：

G02B 6/13 , G02B 6/122 , G02B 6/12

FI (4)：

G02B 6/12 M , G02B 6/12 D , G02B 6/12 A , G02B 6/12 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

マッハツェンダ光回路
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-140648 Applicant：日立電線株式会社
特開平2-001831
Si基板を用いたガラス導波路およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-332215 Applicant：日立電線株式会社

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