基板の乾燥装置および洗浄装置並びに乾燥方法および洗浄方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：好宮幹夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999226226
Publication number (International publication number)：2001053051
Application date： Aug. 10, 1999
Publication date： Feb. 23, 2001
Summary：

【要約】【課題】洗浄液で洗浄後の基板、特にフッ酸処理後の酸化膜等が除去されたシリコンウエーハに対して、その表面にウオーターマークや汚染等を発生させないで清浄な状態に乾燥させることができる乾燥装置と乾燥方法。【解決手段】被乾燥基板表面を純水で濯ぎ、純水水膜を噴射不活性ガスで排除して乾燥する乾燥装置であって、少なくとも前記被乾燥基板を水平に保持し回転を可能とする回転保持手段と、被乾燥基板の上方でかつ中心側に位置し被乾燥基板の表面に向けて不活性ガスを噴射する不活性ガス噴射手段と、前記被乾燥基板の上方でかつ外周側に位置し被乾燥基板の表面に向けて純水を噴射する純水噴射手段とを具備し、前記純水または不活性ガスを噴射する各ノズルを保持すると共に、被乾燥基板の表面に対して平行でかつ被乾燥基板の中心から外周にかけて径方向に移動させるノズル保持移動手段を具備する乾燥装置および乾燥方法。

Claim (excerpt)：

被乾燥基板表面を純水で濯ぎ、純水水膜を噴射不活性ガスで排除して乾燥する乾燥装置であって、少なくとも、前記被乾燥基板を水平に保持し、回転を可能とする回転保持手段と、被乾燥基板の上方でかつ中心側に位置し、被乾燥基板の表面に向けて不活性ガスを噴射する不活性ガス噴射手段と、前記被乾燥基板の上方でかつ外周側に位置し、被乾燥基板の表面に向けて純水を噴射する純水噴射手段とを具備し、前記純水または不活性ガスを噴射する各ノズルを保持すると共に、被乾燥基板の表面に対して平行でかつ被乾燥基板の中心から外周にかけて径方向に移動させるノズル保持移動手段を具備することを特徴とする基板の乾燥装置。

IPC (6)：

H01L 21/304 651 , H01L 21/304 643 , B08B 3/02 , B08B 3/08 , B08B 3/12 , F26B 21/00

FI (6)：

H01L 21/304 651 L , H01L 21/304 643 A , B08B 3/02 D , B08B 3/08 A , B08B 3/12 A , F26B 21/00 B

F-Term (14)：

3B201AA03 , 3B201AB34 , 3B201AB42 , 3B201BB22 , 3B201BB44 , 3B201BB93 , 3B201CB21 , 3B201CC12 , 3L113AB02 , 3L113AB08 , 3L113AC48 , 3L113AC76 , 3L113BA34 , 3L113DA04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

基板の洗浄処理方法並びに洗浄処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-190059 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
フォトレジスト現像装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-326930 Applicant：鹿児島日本電気株式会社
超音波洗浄装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-198566 Applicant：芝浦メカトロニクス株式会社

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