Pat
J-GLOBAL ID:200903065900468261
多孔質光触媒体の製造方法及び多孔質光触媒体並びに浄化装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
好宮 幹夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007171830
Publication number (International publication number):2009007219
Application date: Jun. 29, 2007
Publication date: Jan. 15, 2009
Summary:
【課題】 高い化学的安定性及び機械的強度を有するとともに、光触媒作用を効率よく発揮させることができる光触媒体及びこれの製造方法、並びにこのような光触媒体を用いた浄化装置を提供する。【解決手段】 少なくとも、連続気泡を有する多孔質シリカガラス担体を作製し、該多孔質シリカガラス担体の表面に、光触媒となる材料の被膜を形成する処理を行う多孔質光触媒体の製造方法、及び、少なくとも、連続気泡を有する多孔質シリカガラス担体と、前記多孔質シリカガラス担体の表面に形成された、光触媒となる材料の被膜とからなる多孔質光触媒体、並びに、少なくとも、反応器と、該反応器内に収容された、上記の多孔質光触媒体と、紫外線ランプとを具備し、前記紫外線ランプで前記多孔質光触媒体に紫外線を照射しながら、前記多孔質光触媒体に被処理物を通過させ、光触媒作用によって該被処理物を浄化処理する浄化装置。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
少なくとも、連続気泡を有する多孔質シリカガラス担体を作製し、該多孔質シリカガラス担体の表面に、光触媒となる材料の被膜を形成する処理を行うことを特徴とする多孔質光触媒体の製造方法。
IPC (12):
C03C 17/245
, B01J 35/02
, B01J 37/08
, B01J 37/02
, B01D 53/86
, C03B 20/00
, C03B 8/04
, C03C 3/06
, A61L 9/00
, A61L 9/01
, A61L 9/20
, C02F 1/32
FI (13):
C03C17/245 A
, B01J35/02 J
, B01J37/08
, B01J37/02 301P
, B01D53/36 J
, C03C17/245 Z
, C03B20/00 G
, C03B8/04 P
, C03C3/06
, A61L9/00 C
, A61L9/01 B
, A61L9/20
, C02F1/32
F-Term (128):
4C080AA07
, 4C080AA10
, 4C080BB02
, 4C080CC12
, 4C080HH05
, 4C080JJ03
, 4C080KK08
, 4C080LL10
, 4C080MM02
, 4C080NN01
, 4D037AA11
, 4D037AB04
, 4D037AB18
, 4D037BA18
, 4D048AA06
, 4D048AB03
, 4D048BA06X
, 4D048BA07X
, 4D048BB05
, 4D048EA01
, 4G014AH00
, 4G059AA16
, 4G059AC21
, 4G059AC22
, 4G059EA04
, 4G059EB01
, 4G059EB03
, 4G059EB04
, 4G062AA13
, 4G062BB02
, 4G062CC08
, 4G062DA08
, 4G062DB01
, 4G062DC01
, 4G062DD01
, 4G062DE01
, 4G062DF01
, 4G062EA01
, 4G062EA10
, 4G062EB01
, 4G062EC01
, 4G062ED01
, 4G062EE01
, 4G062EF01
, 4G062EG01
, 4G062FA01
, 4G062FA10
, 4G062FB01
, 4G062FC01
, 4G062FD01
, 4G062FE01
, 4G062FF01
, 4G062FG01
, 4G062FH01
, 4G062FJ01
, 4G062FK01
, 4G062FL01
, 4G062GA01
, 4G062GA10
, 4G062GB01
, 4G062GC01
, 4G062GD01
, 4G062GE01
, 4G062HH01
, 4G062HH03
, 4G062HH05
, 4G062HH07
, 4G062HH09
, 4G062HH11
, 4G062HH13
, 4G062HH15
, 4G062HH17
, 4G062HH20
, 4G062JJ01
, 4G062JJ03
, 4G062JJ05
, 4G062JJ07
, 4G062JJ10
, 4G062KK01
, 4G062KK03
, 4G062KK05
, 4G062KK07
, 4G062KK10
, 4G062MM13
, 4G062NN40
, 4G169AA01
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169AA12
, 4G169BA02A
, 4G169BA02B
, 4G169BA04A
, 4G169BA04B
, 4G169BA48A
, 4G169BD01C
, 4G169BD05A
, 4G169BD05B
, 4G169BD06C
, 4G169CA13
, 4G169CA17
, 4G169EA06
, 4G169EA08
, 4G169EB10
, 4G169EC21X
, 4G169EC21Y
, 4G169ED03
, 4G169FA01
, 4G169FA02
, 4G169FB02
, 4G169FB03
, 4G169FB14
, 4G169FB15
, 4G169FB32
, 4G169FB66
, 4G169FC04
, 4G169FC07
, 4G169HA05
, 4G169HA09
, 4G169HA10
, 4G169HB01
, 4G169HB02
, 4G169HC32
, 4G169HD10
, 4G169HD13
, 4G169HD14
, 4G169HE02
, 4G169HF04
, 4G169HF05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (7)
-
光触媒体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-022786
Applicant:株式会社ノリタケカンパニーリミテド
-
水質浄化剤
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-300575
Applicant:株式会社上田敷物工場
-
紫外線応答型薄膜光触媒とその応用
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-102343
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所, 株式会社光触媒研究所
-
水浄化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-381728
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所, ヤマダ・インダストリー株式会社
-
排ガスの浄化処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-221677
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所, 垰田博史, ヤマダ・インダストリー株式会社
-
多孔質光触媒体とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-050956
Applicant:経済産業省産業技術総合研究所長, 株式会社光触媒研究所, 垰田博史, 野浪亨, 渡辺栄次, 深谷光春
-
排ガス処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-360219
Applicant:経済産業省産業技術総合研究所長, 垰田博史, ヤマダ・インダストリー株式会社
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Cited by examiner (5)
-
光透過ブロック体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-128192
Applicant:信越石英株式会社
-
特開平3-247524
-
光触媒フィルタおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-022511
Applicant:株式会社フジクラ
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複合機能光触媒分散液及び多孔質複合機能光触媒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-309340
Applicant:タケモト産業株式会社, ノーテープ工業株式会社
-
合成石英ガラス製造用バーナー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-079399
Applicant:信越化学工業株式会社
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