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J-GLOBAL ID:200903065900503008
複合修飾金属カルコゲン化物超微粒子
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001277036
Publication number (International publication number):2003089522
Application date: Sep. 12, 2001
Publication date: Mar. 28, 2003
Summary:
【要約】【構成】原料金属化合物を非水溶媒中でチオール化合物存在下、カルコゲン化することにより得られる金属カルコゲン化物超微粒子コロイド溶液あるいはスラリーを中和した後、有機溶媒中へ分散させ、アミン処理を施すことにより表面がチオールとアミンで複合修飾されてなることを特徴とする複合修飾金属カルコゲン化物超微粒子ならびにその製造方法。【効果】金属カルコゲン化物超微粒子の表面がチオールとアミンで複合修飾されるためにアルカン系溶媒を含めた広範な有機溶媒へ可溶化する結果、均一高密度の有機ゾル・ゲルやポリマー中分散材料が得られ、従来材料にない特徴のある高屈折率材料、反射防止、光導電,発光、ピエゾ電気、ハードコート、ガスバリアーなどの有機無機複合ナノコンポジットが得られる。
Claim (excerpt):
原料金属化合物を非水溶媒中でチオール化合物存在下、カルコゲン化することにより得られる金属カルコゲン化物超微粒子コロイド溶液あるいはスラリーを中和した後、有機溶媒中へ分散させ、アミン処理を施すことにより表面がチオールとアミンで複合修飾された複合修飾金属カルコゲン化物超微粒子の製造方法。
IPC (3):
C01G 9/08
, C01B 19/04
, C01G 11/02
FI (3):
C01G 9/08
, C01B 19/04 C
, C01G 11/02
F-Term (5):
4G047AA01
, 4G047AD04
, 4G047BB05
, 4G047BC01
, 4G047BD04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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半導体超微粒子反応試剤
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-198094
Applicant:三井化学株式会社
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特開平1-305806
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半導体超微粒子の製造方法および組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-181157
Applicant:三井東圧化学株式会社
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安定化された半導体超微粒子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-275456
Applicant:三井東圧化学株式会社
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表面修飾金属硫化物超微粒子の製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-250128
Applicant:日本メクトロン株式会社
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Article cited by the Patent:
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