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J-GLOBAL ID:200903065913483227
偏光制御素子および光学素子
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
酒井 宏明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005150074
Publication number (International publication number):2006330107
Application date: May. 23, 2005
Publication date: Dec. 07, 2006
Summary:
【課題】位相差を発生させる波長板を実現すると共に、耐熱性に優れた偏光制御素子を提供すること。【解決手段】ガラス基板などの透明な誘電体基板1上に、二種類以上の金属または合金からなる金属粒子(第1の金属粒子2、第2の金属粒子3)のパターンを連続的に形成することで、透過光または反射光の偏光成分に位相差を発生させる波長板を実現すると共に、耐熱性に優れかつ偏光状態の設計自由度の高い偏光制御素子10を提供する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
誘電体基板上に、二種類以上の金属または合金からなる金属粒子のパターンを連続的に形成したことを特徴とする偏光制御素子。
IPC (2):
FI (3):
G02B5/30
, G02F1/1335 510
, G02F1/13363
F-Term (12):
2H049BA02
, 2H049BA45
, 2H049BA46
, 2H049BC01
, 2H049BC23
, 2H049BC25
, 2H091FA08X
, 2H091FA08Z
, 2H091FA11X
, 2H091FA11Z
, 2H091FB07
, 2H091FB08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
偏光素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-106552
Applicant:京セラ株式会社
-
位相差フィルムおよびこれを用いた楕円偏光フィルム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-314573
Applicant:日本化薬株式会社
-
偏光子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-329199
Applicant:株式会社リコー
Cited by examiner (3)
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