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J-GLOBAL ID：200903066103107802

マルチバンチレーザ発生装置及び発生方法

Inventor：
岡田 康弘

About 岡田 康弘

, 
遠藤 彰

About 遠藤 彰


Applicant, Patent owner：
住友重機械工業株式会社

About 住友重機械工業株式会社


Agent (2)： 高橋 敬四郎 ,  来山 幹雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002175532
Publication number (International publication number)：2004022795
Application date： Jun. 17, 2002
Publication date： Jan. 22, 2004
Summary：
【課題】パルス強度の揃ったマルチバンチレーザビームを発生するのに適したマルチバンチレーザ発生装置を提供する。【解決手段】レーザ光源が、パルスレーザビームを出射する。レーザ光源から出射されたパルスレーザビームがパルス強度変調器に入射する。パルス強度変調器は、入射するパルスレーザビームのパルス強度を変調する。パルス強度変調器で変調されたパルスレーザビームが光増幅器に入射する。光増幅器は、入射するパルスレーザビームを増幅する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
パルスレーザビームを出射するレーザ光源と、 前記レーザ光源から出射されたパルスレーザビームが入射し、入射するパルスレーザビームのパルス強度を変調するパルス強度変調器と、 前記パルス強度変調器で変調されたパルスレーザビームが入射し、入射するパルスレーザビームを増幅する光増幅器と を有するマルチバンチレーザ発生装置。
IPC (3)：
H01S3/10 ,  G02F1/03 ,  H01S3/098
FI (5)：
H01S3/10 A ,  H01S3/10 Z ,  G02F1/03 502 ,  G02F1/03 505 ,  H01S3/098
F-Term (15)：
2H079AA02 ,  2H079BA01 ,  2H079BA02 ,  2H079CA24 ,  2H079EA11 ,  2H079FA02 ,  2H079KA05 ,  2H079KA17 ,  5F072AB02 ,  5F072AB15 ,  5F072HH07 ,  5F072JJ07 ,  5F072KK13 ,  5F072MM03 ,  5F072SS06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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