レーザパターン修正方法並びに修正装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：京本直樹 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000222556
Publication number (International publication number)：2002040627
Application date： Jul. 24, 2000
Publication date： Feb. 06, 2002
Summary：

【要約】【課題】Crなどの金属薄膜を除去加工することにより、スプラッシュ、ロールアップ、基板ダメージなどを最小限にできるレーザマスクリペアシステムの構築。【解決手段】10ps〜300psの範囲にあるパルス幅を有するQスイッチモードロックパルスレーザ1の出射光から、光シャッタ2で切り出したパルス列の一部のパルスを、光学遅延ユニット5によって時間軸で2段階以上に分けたマルチパルスを作り、これを用いてレーザマスクリペア装置を構成する。

Claim (excerpt)：

Qスイッチモード同期パルスレーザ出力光を照射レーザ光とすることを特徴とするレーザパターン修正方法。

IPC (8)：

G03F 1/08 , B23K 26/00 , B23K 26/06 , G02F 1/11 , G02F 1/37 , H01L 21/027 , H01S 3/00 , H01S 3/117

FI (8)：

G03F 1/08 T , B23K 26/00 C , B23K 26/06 E , G02F 1/11 , G02F 1/37 , H01S 3/00 B , H01S 3/117 , H01L 21/30 502 W

F-Term (37)：

2H079AA04 , 2H079AA13 , 2H079BA01 , 2H079CA24 , 2H095BD32 , 2H095BD34 , 2K002AA04 , 2K002AB04 , 2K002AB07 , 2K002AB12 , 2K002BA12 , 2K002HA10 , 2K002HA20 , 2K002HA32 , 4E068AC01 , 4E068CA03 , 4E068CA04 , 4E068CD03 , 4E068CD05 , 4E068CK01 , 4E068DA10 , 4E068DB13 , 5F072AB15 , 5F072HH02 , 5F072JJ05 , 5F072KK06 , 5F072KK08 , 5F072KK12 , 5F072KK13 , 5F072KK15 , 5F072MM09 , 5F072PP01 , 5F072PP07 , 5F072QQ02 , 5F072RR05 , 5F072SS06 , 5F072YY09

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

フォトマスク修正装置およびフォトマスク修正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-083408 Applicant：日本電気株式会社
フォトマスクの欠損欠陥修正方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-300003 Applicant：日本電気株式会社
フォトマスクの修正方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-331631 Applicant：科学技術振興事業団, 古宇田光, 近藤裕己

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