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J-GLOBAL ID：200903066317410723

転写マスクおよびその製造方法

Inventor： 雨宮 勲
Applicant, Patent owner： ホーヤ株式会社
Agent (1)： 藤村 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995066912
Publication number (International publication number)：1996240904
Application date： Mar. 01, 1995
Publication date： Sep. 17, 1996
Summary：

【要約】【目的】 膜剥がれや拡散反応による劣化がなく耐久性に優れるとともに、電子伝導性や熱伝導性に優れ、高い開口精度および転写精度を有する転写マスクを提供する。【構成】 転写マスクを、支持枠部11と、該支持枠部に支持された金属薄膜部3と、該金属薄膜部に形成された開口13とを有する構成とする。

Claim (excerpt)：

支持枠部と、該支持枠部に支持された金属薄膜部と、該金属薄膜部に形成された開口とを有することを特徴とする転写マスク。

IPC (2)：

G03F 1/16 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 1/16 B ,  G03F 1/16 A ,  H01L 21/30 541 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• X線マスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-086758   Applicant：三菱電機株式会社
• X線マスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-113476   Applicant：三菱電機株式会社
• 特開平3-245520
  
• 特開平2-234415