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J-GLOBAL ID：200903066520680760

高分子ゲルおよびその製造方法

Inventor： ▲ぐん▼ 剣萍 ,  古川 英光 ,  黒川 孝幸 ,  黒田 慎也 ,  中島 祐
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 北海道大学
Agent (6)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008025667
Publication number (International publication number)：2009185156
Application date： Feb. 05, 2008
Publication date： Aug. 20, 2009
Summary：

【課題】引張り応力による伸びが良好な高分子ゲルを製造できるようにする。【解決手段】架橋網目構造を有する第1のポリマーと液体を含む第1のゲルを調製する工程と、該第1のゲルを凍結乾燥した後、粉砕して乾燥ゲル微粒子を得る工程と、第2のモノマーを含有する溶液中に前記乾燥ゲル微粒子を浸漬させて前駆体液を得る工程と、前記前駆体液中の第2のモノマーを重合させる工程を有することを特徴とする高分子ゲルの製造方法。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

架橋網目構造を有する第1のポリマーと液体を含む第1のゲルを調製する工程と、 該第1のゲルを凍結乾燥した後、粉砕して乾燥ゲル微粒子を得る工程と、 第2のモノマーを含有する溶液中に前記乾燥ゲル微粒子を浸漬させて前駆体液を得る工程と、 前記前駆体液中の第2のモノマーを重合させる工程を有することを特徴とする高分子ゲルの製造方法。

IPC (1)：

C08F 291/00

FI (1)：

C08F291/00

F-Term (24)：

4J026AA17 ,  4J026AA21 ,  4J026AA26 ,  4J026AA38 ,  4J026AA43 ,  4J026AA45 ,  4J026AA47 ,  4J026AA48 ,  4J026AA50 ,  4J026AA61 ,  4J026AA62 ,  4J026AB44 ,  4J026BA05 ,  4J026BA08 ,  4J026BA20 ,  4J026BA25 ,  4J026BA27 ,  4J026BA29 ,  4J026BA30 ,  4J026BA32 ,  4J026BA40 ,  4J026BA43 ,  4J026FA04 ,  4J026GA06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

• 国際公開第03/093337号パンフレット
  
• 高分子ゲル組成物及びその製造方法、並びに高分子ゲル組成物を用いた光学素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-078887   Applicant：富士ゼロックス株式会社

Cited by examiner (2)

• 高分子樹脂微粒子、導電性微粒子及びこれを含んだ異方導電性接続材料
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2007-542878   Applicant：チェイルインダストリーズインコーポレイテッド
• 高分子ゲル組成物及びその製造方法、並びに高分子ゲル組成物を用いた光学素子
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2003-078887   Applicant：富士ゼロックス株式会社