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J-GLOBAL ID:200903066601882317

X線発生装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994305199
Publication number (International publication number):1996162287
Application date: Dec. 08, 1994
Publication date: Jun. 21, 1996
Summary:
【要約】【目的】 X線源から取り出すX線の強度(取り出し方向へのX線強度)を減少させることなく、飛散粒子阻止用薄膜や清浄光学面などへの不都合な飛散粒子の付着、堆積を低減して、その結果、長時間安定して使用できるX線発生装置を提供すること。【構成】 減圧された真空容器100 内の標的部材101 に励起エネルギービーム102 を照射してプラズマ103 を形成させ、該プラズマ103 からX線104 を取り出すX線発生装置において、前記標的部材101 及び/又は前記プラズマ103 から放出される飛散粒子107 を遮蔽する飛散粒子遮蔽部材105 を前記標的部材101 及びプラズマ103 の近傍に設け、かつ該飛散粒子遮蔽部材105 に前記励起エネルギービーム102 が通過する開口部106aと前記X線104 が通過する別の開口部106bを設けたことを特徴とするX線発生装置。
Claim (excerpt):
減圧された真空容器内の標的部材に励起エネルギービームを照射してプラズマを形成させ、該プラズマからX線を取り出すX線発生装置において、前記標的部材及び/又は前記プラズマから放出される飛散粒子を遮蔽する飛散粒子遮蔽部材を前記標的部材及びプラズマの近傍に設け、かつ該飛散粒子遮蔽部材に前記励起エネルギービームが通過する開口部と前記X線が通過する別の開口部を設けたことを特徴とするX線発生装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
  • 特開平4-129198
  • 特開平4-258799
  • プラズマX線源
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-342046   Applicant:株式会社ニコン
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