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J-GLOBAL ID:200903066699863641

パターン転写装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 宮田 正道
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000009090
Publication number (International publication number):2001198979
Application date: Jan. 18, 2000
Publication date: Jul. 24, 2001
Summary:
【要約】【課題】 インプリント法によるパターン転写を実現できる装置を安価に提供すると共に、インプリント法での温度変化を伴うという生産上の欠点を克服し、生産性の高いパターン転写装置とする。【解決手段】 基板2を載置固定するプレート3上に、パターン形状である凹凸を円周面に有し、積極回転する円筒形状の型部材6を昇降可能に設置すると共に、プレート3又は型部材6に加熱手段を設け、更にこの型部材6には基板2への押し付け荷重の制御機構を設け、プレート3上の基板2に型部材6を回転させながら押し付け、型部材6又はプレート3のいずれかを平行移動させることにより、パターン転写を行うことを特徴とする。
Claim (excerpt):
基板を載置固定するプレート上に、パターン形状である凹凸を円周面に有し、積極回転する円筒形状の型部材を昇降可能に設置すると共に、プレート又は型部材に加熱手段を設け、更にこの型部材には基板への押し付け荷重の制御機構を設け、プレート上の基板に型部材を回転させながら押し付け、型部材又はプレートのいずれかを平行移動させることにより、パターン転写を行うことを特徴とするパターン転写装置。
F-Term (18):
4F209AA21 ,  4F209AC03 ,  4F209AF01 ,  4F209AG01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AK09 ,  4F209AP06 ,  4F209AR06 ,  4F209AR07 ,  4F209PA03 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PH01 ,  4F209PH06 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ02 ,  4F209PW15
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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