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J-GLOBAL ID：200903066899742938

気相合成ダイヤモンド薄膜の表面研磨方法

Inventor：
足立 美紀

About 足立 美紀


Applicant, Patent owner：
三菱マテリアル株式会社

About 三菱マテリアル株式会社


Agent (1)： 富田 和夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997314925
Publication number (International publication number)：1999151670
Application date： Nov. 17, 1997
Publication date： Jun. 08, 1999
Summary：
【要約】【課題】 気相合成ダイヤモンド薄膜の表面に平滑性のすぐれた研磨面を形成する。【解決手段】 気相合成ダイヤモンド薄膜の表面を、水溶液中に5〜1000nmの平均粒径を有するSiO2 粉末が5〜40重量%の割合で分散分布し、かつ1〜200cPの粘度および8〜12.5のpHを有する研磨液を用い、軟質の人工または天然有機材料で構成された定盤平面に加圧当接し、前記定盤および/または前記薄膜を繰り返し相互平面移動させることにより研磨する。
Claim (excerpt)：
水溶液中に5〜1000nmの平均粒径を有する酸化珪素粉末が5〜40重量%の割合で分散分布し、かつ1〜200cPの粘度および8〜12.5のpHを有する研磨液を用い、気相合成ダイヤモンド薄膜の表面を、軟質の人工または天然有機材料で構成された定盤平面に加圧当接し、前記定盤および/または前記薄膜を繰り返し相互平面移動させることを特徴とする気相合成ダイヤモンド薄膜の表面研磨方法。
IPC (3)：
B24B 53/00 ,  B24D 3/00 310 ,  B24D 3/00 320
FI (3)：
B24B 53/00 C ,  B24D 3/00 310 D ,  B24D 3/00 320 B
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (2)

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