気相合成ダイヤモンド薄膜の表面研磨方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：富田和夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997314925
Publication number (International publication number)：1999151670
Application date： Nov. 17, 1997
Publication date： Jun. 08, 1999
Summary：

【要約】【課題】気相合成ダイヤモンド薄膜の表面に平滑性のすぐれた研磨面を形成する。【解決手段】気相合成ダイヤモンド薄膜の表面を、水溶液中に5〜1000nmの平均粒径を有するSiO2 粉末が5〜40重量%の割合で分散分布し、かつ1〜200cPの粘度および8〜12.5のpHを有する研磨液を用い、軟質の人工または天然有機材料で構成された定盤平面に加圧当接し、前記定盤および/または前記薄膜を繰り返し相互平面移動させることにより研磨する。

Claim (excerpt)：

水溶液中に5〜1000nmの平均粒径を有する酸化珪素粉末が5〜40重量%の割合で分散分布し、かつ1〜200cPの粘度および8〜12.5のpHを有する研磨液を用い、気相合成ダイヤモンド薄膜の表面を、軟質の人工または天然有機材料で構成された定盤平面に加圧当接し、前記定盤および/または前記薄膜を繰り返し相互平面移動させることを特徴とする気相合成ダイヤモンド薄膜の表面研磨方法。

IPC (3)：

B24B 53/00 , B24D 3/00 310 , B24D 3/00 320

FI (3)：

B24B 53/00 C , B24D 3/00 310 D , B24D 3/00 320 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

シリカ分散液及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-242380 Applicant：株式会社トクヤマ
特開昭59-107847

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