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J-GLOBAL ID：200903066980260190

X線を発生するためのシステム及び方法

Inventor：
ブライアン・リー・ローレンス

About ブライアン・リー・ローレンス

, 
ロバート・ジョン・フィルキンス

About ロバート・ジョン・フィルキンス

, 
ピーター・ウィリアム・ロレイン

About ピーター・ウィリアム・ロレイン


Applicant, Patent owner：
ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

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Agent (4)： 松本 研一 ,  小倉 博 ,  伊藤 信和 ,  黒川 俊久
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005090337
Publication number (International publication number)：2005285764
Application date： Mar. 28, 2005
Publication date： Oct. 13, 2005
Summary：
【課題】 逆コンプトン散乱のプロセスを介してX線を発生するシステムを提供する。【解決手段】 本システム(10)は、レーザ空洞(20)内で第1の方向(24)に高エネルギの光パルス(16)を方向付けるように構成されている高繰返し速度のレーザ(12)と、レーザ空洞(20)内で第1の方向とは反対の第2の方向(26)に電子ビーム(18)を方向付けるように構成されているパルス状電子ビーム(18)の源(14)とを含んでいる。電子ビーム(18)はレーザ空洞(20)内で光パルス(16)中の光子と相互作用して、第2の方向(26)にX線(22)を生成する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
X線(22)を発生するためのシステム(10)であって、 レーザ空洞(20)内で第1の方向(24)に高エネルギの光パルス(16)を方向付けるように構成されている高繰返し速度のレーザ(12)と、 前記レーザ空洞(20)内で前記第1の方向(24)とは反対の第2の方向(26)に電子ビーム(18)を方向付けるように構成されているパルス状電子ビーム(18)の源(14)とを含んでおり、 前記電子ビーム(18)が前記レーザ空洞(20)内で前記光パルス(16)中の光子と衝突して、前記第2の方向(26)にX線(22)を生成すること、 を特徴とするシステム(10)。
IPC (3)：
H05G2/00 ,  H01S3/00 ,  H05H13/04
FI (3)：
H05G1/00 L ,  H01S3/00 Z ,  H05H13/04 Z
F-Term (20)：
2G085AA13 ,  2G085BA01 ,  2G085BE10 ,  2G085DA03 ,  2G085EA06 ,  2G085EA08 ,  4C092AA03 ,  4C092AB27 ,  5F172AE03 ,  5F172AF02 ,  5F172AF06 ,  5F172CC04 ,  5F172CC07 ,  5F172DD04 ,  5F172NN14 ,  5F172NQ24 ,  5F172NQ44 ,  5F172NQ50 ,  5F172NQ62 ,  5F172ZZ14
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 米国特許第6332017号
Cited by examiner (6)
  • フォトン発生器
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-117837   Applicant：ブルックヘヴンサイエンスアソシエイツ
  • X線発生装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-092472   Applicant：石川島播磨重工業株式会社
  • 短波長光発生装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-073649   Applicant：ソニー株式会社
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