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J-GLOBAL ID:200903067061768613
純水製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
重野 剛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997186465
Publication number (International publication number):1999028482
Application date: Jul. 11, 1997
Publication date: Feb. 02, 1999
Summary:
【要約】【課題】 オゾン酸化によるTOCの分解効率を高め、著しく低TOC濃度の純水を製造する。【解決手段】 原水を脱イオン処理した後、オゾン酸化処理し、生成したイオン性物質をイオン交換処理する純水製造方法において、オゾン酸化処理をpH9以上で行う。
Claim (excerpt):
原水を脱イオン処理した後、オゾン酸化処理し、生成したイオン性物質をイオン交換処理する純水製造方法において、該オゾン酸化処理をpH9以上で行うことを特徴とする純水製造方法。
IPC (3):
C02F 1/78
, C02F 1/42
, C02F 1/44
FI (3):
C02F 1/78
, C02F 1/42
, C02F 1/44 J
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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超純水の製造装置、製造方法及び製造装置の制御方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-341110
Applicant:三菱電機株式会社
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水処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-211471
Applicant:野村マイクロ・サイエンス株式会社
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逆浸透膜分離装置および高濃度溶液の分離方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-314245
Applicant:東レ株式会社
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特開昭56-017687
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超純水製造装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-319898
Applicant:オルガノ株式会社
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特開平4-090885
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特開昭50-094757
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上水浄化方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-296254
Applicant:株式会社日立製作所, トキコ株式会社
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