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J-GLOBAL ID:200903067127580947
プラズマ反応器
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (1):
渡邉 一平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005079780
Publication number (International publication number):2006261040
Application date: Mar. 18, 2005
Publication date: Sep. 28, 2006
Summary:
【課題】ガス流路を通過するガスに含まれる所定の成分を効率的に反応させることが可能なプラズマ反応器を提供する。【解決手段】本発明のプラズマ反応器1は、プラズマ発生電極2を二つ以上備え、二つ以上のプラズマ発生電極2が、ケース体5のガス流路6の内部に、それぞれ独立して電気的に制御された状態で直列的に配設されるとともに、ガス流路6の上流側12に配設されたプラズマ発生電極2aを構成するそれぞれの単位電極8aの導電体3aの表面の面積が、ガス流路6の下流側13に配設されたプラズマ発生電極2bを構成する単位電極8bの導電体3bの表面の面積よりも小であり、それぞれのプラズマ発生電極2a,2bに、独立して制御された電力を投入することにより、それぞれの単位電極8の相互間にプラズマを発生させることできる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
板状の導電体と前記導電体の少なくとも一方の表面に配設されたセラミック誘電体とを有する複数の単位電極が所定の間隔を隔てて対向配置されたプラズマ発生電極、及び所定の成分を含むガスの流路(ガス流路)を内部に有するケース体を備えたプラズマ反応器であって、
前記プラズマ発生電極を二つ以上備え、二つ以上の前記プラズマ発生電極が、前記ケース体の前記ガス流路の内部に、それぞれ独立して電気的に制御された状態で直列的に配設されるとともに、
前記ガス流路の上流側に配設された前記プラズマ発生電極を構成するそれぞれの前記単位電極の前記導電体の表面の面積が、前記ガス流路の下流側に配設された前記プラズマ発生電極を構成する前記単位電極の前記導電体の表面の面積よりも小であり、
それぞれの前記プラズマ発生電極に、独立して制御された電力を投入することにより、それぞれの前記単位電極の相互間にプラズマを発生させることが可能なプラズマ反応器。
IPC (3):
H05H 1/24
, B01J 19/08
, F01N 3/08
FI (3):
H05H1/24
, B01J19/08 E
, F01N3/08 C
F-Term (13):
3G091AA18
, 3G091AB14
, 3G091BA13
, 3G091BA14
, 4G075AA03
, 4G075BA01
, 4G075BA06
, 4G075CA12
, 4G075CA47
, 4G075DA02
, 4G075EC21
, 4G075FB04
, 4G075FC15
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
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内燃機関の排ガス浄化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-006023
Applicant:株式会社デンソー
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米国特許第6482368号明細書
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特許第3089213号公報
Cited by examiner (6)
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プラズマを利用してNOXを分解する排気ガス浄化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-114100
Applicant:河村英男
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内燃機関の排ガス浄化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-006023
Applicant:株式会社デンソー
-
排ガス浄化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-296749
Applicant:トヨタ自動車株式会社
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内燃機関の排気浄化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-056796
Applicant:株式会社デンソー
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NOXを分解する排気ガス浄化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-171688
Applicant:河村英男
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NOXを吸着材に付着させて分解する排気ガス浄化装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-172232
Applicant:河村英男
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