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J-GLOBAL ID：200903067250481384

原盤露光装置及び方法

Inventor： 末永 正志 ,  杉山 寿紀
Applicant, Patent owner： 日立マクセル株式会社
Agent (1)： 川北 喜十郎 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997076450
Publication number (International publication number)：1998255319
Application date： Mar. 12, 1997
Publication date： Sep. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】 微小ピット及び幅狭溝を高精度で露光することができ、しかも現像機能をも同時に備えた原盤露光装置を提供する。【解決手段】 原盤露光装置100はフォトレジスト膜20を塗布した原盤19にレーザ光を集光して照射して所望のパターンに感光する。ノズル210は露光中に集光レンズ17と原盤19との間に水を充満させる。集光レンズ17のNAが増大し、液浸レンズとして機能する。該ノズルを水タンク及び現像液タンクに配管し、供給液体を水または現像液に切り換えるバルブを備えることにより、原盤露光装置を現像装置としても機能させることもできる。

Claim (excerpt)：

フォトレジストを塗布した記録媒体製造用原盤にレーザ光を集光して照射することによりフォトレジストを所望のパターンに感光する原盤露光装置において、上記レーザ光を上記原盤表面に集光するための光学素子と、上記光学素子と上記原盤表面との間の光路に液体を介在させるための手段とを備えることを特徴とする原盤露光装置。

IPC (2)：

G11B 7/135 ,  G03F 7/20 505

FI (2)：

G11B 7/135 Z ,  G03F 7/20 505

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭50-047639
  
• 現像装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-340541   Applicant：日本コロムビア株式会社
• 半導体ウエハの周辺露光方法及び周辺露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-063999   Applicant：三菱電機株式会社
• 特開昭50-047639