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J-GLOBAL ID:200903067403036300
検出装置及び該検出装置を用いた投影露光装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
伊東 哲也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000356597
Publication number (International publication number):2002164268
Application date: Nov. 22, 2000
Publication date: Jun. 07, 2002
Summary:
【要約】【課題】 アライメントスコープの製造誤差によって発生する波長シフトを補正し、調整して、他の収差の発生を極力抑え、高精度な位置検出を可能とする。【解決手段】 検出対象であるウエハ6上にある位置検出マークを光源401から出射した光を利用して所定の倍率で検出する検出系4とを備え、該検出系4内に楔光学部材群410を構成する楔形状をした2枚の楔光学部材410a,410bを有し、該2枚の楔光学部材の、異なる楔光学部材の隣り合う楔面を検出光軸の直角方向から所定の角度傾け且つ該隣り合う楔面が平行になるように配置し、楔光学部材410a,410bの間隔を調整することで、検出系4の波長に依存した位置ずれ量を補正する。
Claim (excerpt):
光源から出射した光を利用して検出対象を検出する検出系を備え、該検出系内に複数の楔光学部材を有し、該複数の楔光学部材の内、異なる楔光学部材の隣り合う楔面を検出光軸の直角方向から所定の角度傾け且つ該隣り合う楔面が平行になるように配置し、前記楔光学部材の間隔を調整可能に構成したことを特徴とする検出装置。
IPC (7):
H01L 21/027
, G01B 11/00
, G02B 5/30
, G02B 13/24
, G02B 19/00
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00
FI (9):
G01B 11/00 A
, G02B 5/30
, G02B 13/24
, G02B 19/00
, G03F 7/20 521
, G03F 9/00 H
, H01L 21/30 525 S
, H01L 21/30 502 G
, H01L 21/30 525 A
F-Term (37):
2F065AA03
, 2F065BB03
, 2F065BB29
, 2F065CC19
, 2F065FF42
, 2F065FF51
, 2F065GG12
, 2F065JJ03
, 2F065JJ26
, 2F065LL00
, 2F065LL02
, 2F065LL36
, 2F065LL37
, 2F065LL46
, 2F065LL59
, 2F065QQ28
, 2H049BA05
, 2H049BA07
, 2H049BB03
, 2H049BC23
, 2H052BA02
, 2H052BA09
, 2H052BA12
, 2H087KA21
, 2H087NA09
, 2H087RA41
, 5F046AA28
, 5F046BA03
, 5F046DD06
, 5F046ED02
, 5F046FA03
, 5F046FA10
, 5F046FA20
, 5F046FB06
, 5F046FB07
, 5F046FB08
, 5F046FB17
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
-
露光装置及びそれを用いた半導体チップの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-024414
Applicant:キヤノン株式会社
-
特開平4-223326
-
投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-132411
Applicant:株式会社ニコン
-
特開平2-251707
-
収差補正光学系
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-256486
Applicant:キヤノン株式会社
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