Pat
J-GLOBAL ID：200903067576637309

パターンの位置合わせ方法

Inventor：
井田 徹

About 井田 徹


Applicant, Patent owner：
日本アビオニクス株式会社

About 日本アビオニクス株式会社


Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998130205
Publication number (International publication number)：1999328410
Application date： May. 13, 1998
Publication date： Nov. 30, 1999
Summary：
【要約】【課題】 検査ワークの局所的な歪みが許容範囲内であれば、これを補正する位置合わせを行う。【解決手段】 基準となるマスタパターンとカメラで撮像した被測定パターンの全体の位置合わせを行う(ステップ106)。被測定パターン中に複数の分割領域を設定し、これに対応する分割領域をマスタパターン中に設定する。被測定パターンの分割領域において少なくとも4点の位置決めマークの座標を求め、これに対応する位置決めマークの座標をマスタパターンの対応分割領域において求める。これらの座標より被測定パターンとマスタパターンの間の座標変換式を決定し、マスタパターンの分割領域を座標変換式によって変換し、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを分割領域ごとに行う(ステップ107)。
Claim (excerpt)：
基準となるマスタパターンとカメラで撮像した被測定パターンを比較することにより被測定パターンを検査するパターン検査方法において、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを行う位置合わせ方法であって、被測定パターンとマスタパターンの全領域について互いの位置決めマークの位置を合わせることによりマスタパターンと被測定パターンの全体の位置合わせを行った後に、被測定パターン中に複数の分割領域を設定すると共に、これに対応する複数の分割領域をマスタパターン中に設定し、被測定パターンの分割領域において少なくとも4点の位置決めマークの座標を求めると共に、これに対応する少なくとも4点の位置決めマークの座標をマスタパターンの対応分割領域において求め、これらの座標より被測定パターンとマスタパターンの間の座標変換式を決定し、マスタパターンの分割領域を前記座標変換式によって変換することにより、マスタパターンと被測定パターンの位置合わせを分割領域ごとに行うことを特徴とするパターンの位置合わせ方法。
IPC (5)：
G06T 7/00 ,  G01B 11/24 ,  G01N 21/88 ,  H01L 23/12 ,  H05K 3/00
FI (6)：
G06F 15/62 405 C ,  G01B 11/24 F ,  G01N 21/88 E ,  H05K 3/00 Q ,  H01L 23/12 P ,  G06F 15/70 455 A
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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