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J-GLOBAL ID：200903067590784608

ポジ型感放射線性組成物

Inventor： 田村 一貴 ,  大林 元太郎
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999106856
Publication number (International publication number)：2000298345
Application date： Apr. 14, 1999
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：

【要約】【課題】サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。【解決手段】酸の作用によって分解し、アルカリ可溶性となる基を有する構造単位、および下記一般式(1)で示される構造単位を含む重合体、および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(ここでXはハロゲン元素またはシアノ基、Rfはフッ素を含有する炭素数1から20の有機基を表す。)

Claim (excerpt)：

酸の作用によって分解し、アルカリ可溶性となる基を有する構造単位、および下記一般式(1)で示される構造単位を含む重合体、および放射線の照射によって酸を発生する酸発生剤を含有することを特徴とするポジ型感放射線性組成物。【化1】(ここでXはハロゲン元素またはシアノ基、Rfはフッ素を含有する炭素数1から20の有機基を表す。)

IPC (9)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 12/22 ,  C08F 20/22 ,  C08F 20/50 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/16 ,  C08L 33/22 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/027

FI (9)：

G03F 7/039 601 ,  C08F 12/22 ,  C08F 20/22 ,  C08F 20/50 ,  C08L 25/18 ,  C08L 33/16 ,  C08L 33/22 ,  G03F 7/033 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (113)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AB20 ,  2H025AC01 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BF08 ,  2H025BF09 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J002BC11W ,  4J002BC12W ,  4J002BG03W ,  4J002BG04W ,  4J002BG05W ,  4J002BG07W ,  4J002BG08W ,  4J002BG08X ,  4J002BG11W ,  4J002BG11X ,  4J002BH01W ,  4J002BH02W ,  4J002EB116 ,  4J002EB126 ,  4J002EN136 ,  4J002EQ016 ,  4J002EU186 ,  4J002EV216 ,  4J002EV246 ,  4J002EV266 ,  4J002EV296 ,  4J002EZ006 ,  4J002FD200 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J002GQ05 ,  4J100AB03P ,  4J100AB07P ,  4J100AC07P ,  4J100AC11P ,  4J100AC53P ,  4J100AE83P ,  4J100AK31Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08Q ,  4J100AL16Q ,  4J100AL26P ,  4J100AL26Q ,  4J100AL74P ,  4J100AL74Q ,  4J100AL75Q ,  4J100AL91Q ,  4J100AL92P ,  4J100AM01Q ,  4J100AM03P ,  4J100AM03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA04Q ,  4J100BA05Q ,  4J100BA06Q ,  4J100BA10P ,  4J100BA12Q ,  4J100BA14P ,  4J100BA14Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA16P ,  4J100BA16Q ,  4J100BA20P ,  4J100BA20Q ,  4J100BA22P ,  4J100BA41P ,  4J100BA41Q ,  4J100BA53P ,  4J100BA53Q ,  4J100BA55P ,  4J100BA58Q ,  4J100BA72Q ,  4J100BA76P ,  4J100BB03P ,  4J100BB03Q ,  4J100BB07P ,  4J100BB17P ,  4J100BB18P ,  4J100BC02P ,  4J100BC02Q ,  4J100BC03P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC23P ,  4J100BC23Q ,  4J100BC43P ,  4J100BC43Q ,  4J100BC49P ,  4J100BC49Q ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC83P ,  4J100BC83Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100DA39 ,  4J100JA37 ,  4J100JA38 ,  4J100JA46

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 感光性材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-185046   Applicant：株式会社東芝
• パターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-167810   Applicant：株式会社東芝