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J-GLOBAL ID：200903067745342240

偏光子およびその製造方法、並びに液晶表示装置

Inventor：
渋谷 明慶

About 渋谷 明慶


Applicant, Patent owner：
日本ゼオン株式会社

About 日本ゼオン株式会社


Agent (1)： 福村 直樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005157764
Publication number (International publication number)：2006330616
Application date： May. 30, 2005
Publication date： Dec. 07, 2006
Summary：
【課題】 ワイヤグリッド型偏光子の優れた偏光性能を維持しながら簡便な製造方法で、容易に作製可能な小型薄型の偏光子、およびその製造方法の提供、並びにこの偏光子を用いた高光透過率、高コントラストの液晶表示装置の提供。【解決手段】 平面状の透明基板表面に複数列の平行溝を形成した溝形成部を有し、該溝形成部を含む透明基板の表面上に、該溝形成部を含む透明基板の表面上部からみたとき、該溝形成部を含む透明基板表面全体を覆うように吸光性薄膜層が積層されており、下記条件(1)及び(2)を満足する偏光子。(1)-0.1δ<(h0-h1)(2)n1が2.5以上、またはk1が1.5以上 (ここで、h0は透明基板表面に形成した平行溝の深さ、h1は吸光性薄膜層の厚さ、λ0は使用する光の真空中の波長、n1およびk1はそれぞれ波長λ0での光における吸光性薄膜層の複素屈折率の実部および虚部の値、δは計算値{λ0/(2π2n12k1)1/2}を表す。)【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
平面状の透明基板表面に複数列の平行溝を形成した溝形成部を有し、該溝形成部を含む透明基板の表面上に、該溝形成部を含む透明基板の表面上部からみたとき、該溝形成部を含む透明基板表面全体を覆うように吸光性薄膜層が積層されており、下記条件(1)及び(2)を満足する偏光子。 (1)-0.1δ<(h0-h1) (2)n1が2.5以上、又はk1が1.5以上 (ここで、h0は透明基板表面に形成した平行溝の深さ、h1は吸光性薄膜層の厚さ、λ0は使用する光の真空中の波長、n1およびk1はそれぞれ波長λ0での光における吸光性薄膜層の複素屈折率の実部および虚部の値、δは{λ0/(2π2n12k1)1/2}を表す。)
IPC (2)：
G02B 5/30 ,  G02F 1/133
FI (2)：
G02B5/30 ,  G02F1/13363
F-Term (9)：
2H049BA02 ,  2H049BA45 ,  2H049BB62 ,  2H049BC22 ,  2H091FA08 ,  2H091FD04 ,  2H091FD07 ,  2H091LA11 ,  2H091LA12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (2)
  • 特開平1-314204
  • 特開平1-314204

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