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J-GLOBAL ID：200903067922824625

プラズマ励起用アンテナ、プラズマ処理装置

Inventor：
渡辺 一弘

About 渡辺 一弘

, 
生田 美植

About 生田 美植

, 
遠藤 光広

About 遠藤 光広


Applicant, Patent owner：
日本真空技術株式会社

About 日本真空技術株式会社


Agent (1)： 石島 茂男 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996242648
Publication number (International publication number)：1998070107
Application date： Aug. 26, 1996
Publication date： Mar. 10, 1998
Summary：
【要約】【課題】端子間の電圧差を小さくできるプラズマ励起用アンテナを提供する。【解決手段】 複数の部分アンテナ21〜25と複数のコンデンサ71〜74とを交互に接続してプラズマ励起用アンテナ2を構成する。このプラズマ励起用アンテナ2に交流電流を流して各部分アンテナ21〜25から電磁波を放射させ、プラズマ発生槽内のガスをプラズマ化する際、部分アンテナ21〜25とコンデンサ12、71〜74とで構成される部分的なLC直列回路が共振状態になるようにしておく。インピーダンスが下がり、端子41a、45b間の電圧差を小さくできるので、端子41a、45b間で放電が生じたり、プラズマ中に不純物が混入することがなくなる。
Claim (excerpt)：
高周波電圧が印加される端子間が近接したプラズマ励起用アンテナであって、電磁波を放射できるように構成された複数の部分アンテナと、複数のコンデンサとを有し、前記部分アンテナと前記コンデンサとが電気的に交互に接続されて構成され、その両端が前記端子にされて交流電流が流されたときに前記各部分アンテナから電磁波を放射できるように構成されたことを特徴とするプラズマ励起用アンテナ。
IPC (6)：
H01L 21/3065 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01Q 7/00 ,  H05H 1/46
FI (6)：
H01L 21/302 B ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 A ,  H01L 21/205 ,  H01Q 7/00 ,  H05H 1/46 A
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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