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J-GLOBAL ID:200903068015129955
液晶表示体及びその製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
鈴木 喜三郎 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996057946
Publication number (International publication number):1997244009
Application date: Mar. 14, 1996
Publication date: Sep. 19, 1997
Summary:
【要約】【課題】 平坦化能の無い層間絶縁膜形成の影響により、液晶が接する基板の平坦性が悪くなる、そのためラビング時の断線等がある。また平坦化能のある層間絶縁膜の場合、処理温度が高温になるためTFTの特性が落ち、表示の劣化がある。【解決手段】 低温硬化型ポリシラザンを塗布した後、300°C以下で焼成し層間絶縁膜とする。
Claim (excerpt):
低温ポリシリコンTFT液晶表示体の層間絶縁膜を300°C以下の温度で処理、形成したことを特徴とする液晶表示体。
IPC (2):
G02F 1/1333 505
, G02F 1/136 500
FI (2):
G02F 1/1333 505
, G02F 1/136 500
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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半導体装置および半導体装置の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-044090
Applicant:シャープ株式会社
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シリコン酸化膜の形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-188156
Applicant:富士通株式会社, 株式会社九州富士通エレクトロニクス
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液晶表示装置およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-341469
Applicant:触媒化成工業株式会社
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シリカ系被膜形成用コーティング組成物および被膜付基材
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-150958
Applicant:触媒化成工業株式会社, 富士通株式会社
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透明電極付基板およびその用途
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-131906
Applicant:触媒化成工業株式会社
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