表面反射防止膜用組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996065993
Publication number (International publication number)：1996320569
Application date： Mar. 22, 1996
Publication date： Dec. 03, 1996
Summary：

【要約】【目的】低屈折率(1.4以下)であり、且つ水媒体にて良好に塗布膜を形成、除去ができ、且つ、残渣(スカム)等の問題も発生しないフォトレジスト用表面反射防止膜用組成物を提供する。【構成】水溶性フッ素化合物及び水を主成分とする表面反射防止膜用組成物において、水溶性フッ素化合物として、?@1気圧、20°Cにおいて固体である水溶性フッ素化合物、?A1気圧、20°Cにおいて液状であり、且つ1気圧での沸点が100°C以上である水溶性フッ素化合物の双方を含有することを特徴とする表面反射防止膜用組成物。

Claim (excerpt)：

水溶性フッ素化合物及び水を主成分とする表面反射防止膜用組成物において、水溶性フッ素化合物として、?@1気圧、20°Cにおいて固体である水溶性フッ素化合物、?A1気圧、20°Cにおいて液状であり、且つ1気圧での沸点が100°C以上である水溶性フッ素化合物の双方を含有することを特徴とする表面反射防止膜用組成物。

IPC (5)：

G03F 7/11 501 , C09D171/02 PLQ , G02B 1/11 , H01L 21/027 , G03F 7/004 506

FI (5)：

G03F 7/11 501 , C09D171/02 PLQ , G03F 7/004 506 , G02B 1/10 A , H01L 21/30 574

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

レジスト表面反射防止膜形成性組成物及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-126265 Applicant：三菱化成株式会社
反射防止膜材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-088202 Applicant：信越化学工業株式会社

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