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J-GLOBAL ID：200903088333608537

反射防止膜材料

Inventor： 渡辺 聡 ,  石原 俊信 ,  竹田 好文 ,  丸山 和政
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 小島 隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993088202
Publication number (International publication number)：1994273926
Application date： Mar. 23, 1993
Publication date： Sep. 30, 1994
Summary：

【要約】【目的】 微細で寸法精度及び合わせ精度が高い上、簡便な工程で生産性及び再現性良く、しかも環境面での問題もなく、半導体集積回路の製造時においてフォトリソグラフィーのレジストパターン形成を可能にし得る反射防止膜材料を提供する。【構成】 下記一般式(1)で示されるパーフルオロアルキルスルホン酸アンモニウム塩又は下記一般式(2)で示されるパーフルオロアルキルカルボン酸アンモニウム塩と少なくとも一種類の水溶性樹脂とを配合する。【化1】(式中、Rは水素原子又はアルキル基であり、nは1〜20の整数である。)

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)で示されるパーフルオロアルキルスルホン酸アンモニウム塩又は下記一般式(2)で示されるパーフルオロアルキルカルボン酸アンモニウム塩と少なくとも一種類の水溶性樹脂とを含有してなることを特徴とする反射防止膜材料。【化1】(式中、Rは水素原子又はアルキル基であり、nは1〜20の整数である。)

IPC (6)：

G03F 7/004 506 ,  G03F 7/004 504 ,  C07C219/06 ,  C07C309/76 ,  G03F 7/11 502 ,  H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• レジスト表面反射防止膜形成性組成物及びパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-126265   Applicant：三菱化成株式会社
• 表面反射防止コーティングフィルム
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-128453   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• レジスト用塗布液及びそれを用いたレジスト材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-327610   Applicant：東京応化工業株式会社