Pat
J-GLOBAL ID：200903068115242945

パタ-ン検査装置

Inventor：
水野 文夫

About 水野 文夫


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 高田 幸彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997014922
Publication number (International publication number)：1998213422
Application date： Jan. 29, 1997
Publication date： Aug. 11, 1998
Summary：
【要約】【課題】致命につながる欠陥を正確、迅速に判定し、分類し得るようにすること。【解決手段】ウェハはプリアライメントされ、ウェハ番号が読取られ(2)、このウェハに対応するレシピが読出される(3)。ウェハはXY-ステ-ジに搬送され(4)、アライメントされる(5)。このウェハに対応したウェハマップ(検査点マップ)が読出され、表示される(6)。操作者はウェハマップ上検査したい箇所指定し(7)、それが電子ビ-ム直下に来るようにステ-ジ移動される(8)。走査電子ビ-ムが照射され、位置決め用画像が形成される。その画像は参照用SEM画像(位置決め用参照画像)と比較され、検査点の精密な位置決めが行われる(9)。その後、検査用画像が形成され(10)、検査用参照画像と比較され、両画像の差異部が検出される(11)。差異部はパタ-ン欠陥は、少なくとも短絡、断線、凸、欠け、ピンホ-ルおよび孤立の欠陥に分けて類型分類される(12)。
Claim (excerpt)：
試料の画像を生成し、その試料上に形成されたパタ-ンを検査するパタ-ン検査装置において、前記試料の画像に対応した参照用画像を格納し、その格納された参照用画像を読み出し、その読出された参照用画像と前記試料の画像とを比較して、その両画像の差異部を検出し、そしてその差異部を少なくとも短絡、断線、凸、欠け、ピンホ-ルおよび孤立の欠陥に分類するように構成したことを特徴とするパタ-ン検査装置。
IPC (4)：
G01B 11/24 ,  G01N 21/88 ,  G06T 7/00 ,  H01L 21/66
FI (5)：
G01B 11/24 F ,  G01N 21/88 J ,  H01L 21/66 J ,  G06F 15/62 405 A ,  G06F 15/70 455 B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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