パターン検査方法及びパターン検査装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：伊東忠彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994187388
Publication number (International publication number)：1996055218
Application date： Aug. 09, 1994
Publication date： Feb. 27, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】ミクロな欠陥についてもマクロな欠陥についても検出し、欠陥の過剰検出を防止し、欠陥検出性能の変化を防止する。【構成】被検査物、例えばプリント配線基板の配線パターンの検査パターン2に発生する欠陥を検出するパターン検査方法において、予め設定された基準パターン中に存在する最も細いパターンの許容最小値に応じて、該許容最小値よりサイズの小さな欠陥を検出するミクロ欠陥検出工程3、及び許容最小値W以上のサイズの欠陥を検出するマクロ欠陥検出工程103を備える。

Claim (excerpt)：

被検査物の検査パターンに発生する欠陥を検出するパターン検査方法において、予め設定された所定の基準サイズに応じて、該基準サイズよりサイズの小さな欠陥を検出するミクロ欠陥検出工程と、上記基準サイズ以上のサイズの欠陥を検出するマクロ欠陥検出工程と、を含むことを特徴とするパターン検査方法。

IPC (2)：

G06T 7/00 , G01N 21/88

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (13)

外観検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-064141 Applicant：富士通株式会社
画像パターンの検査方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-021986 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
画像欠陥判別処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-264442 Applicant：日本電信電話株式会社

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