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J-GLOBAL ID：200903068316319911

基板加熱処理用均温プレート

Inventor： 北野 良夫 ,  安部 和彦 ,  堀江 正俊 ,  石渡 亨
Applicant, Patent owner： 東レ株式会社 ,  トクデン株式会社
Agent (1)： 伴 俊光
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995199120
Publication number (International publication number)：1997024322
Application date： Jul. 11, 1995
Publication date： Jan. 28, 1997
Summary：

【要約】【課題】 ホットプレート法において基板を均一に加熱できる均温プレートを提供する。【解決手段】 基板に対向する面を有し、発熱体22からの熱を前記基板に伝達する均温プレート25であって、該均温プレート25の肉厚内部に、気液2相の熱媒体23を密封したジャケット24を配置したことを特徴とする、基板加熱処理用均温プレート。

Claim (excerpt)：

基板に対向する面を有し、発熱体からの熱を前記基板に伝達する均温プレートであって、該均温プレートの肉厚内部に、気液2相の熱媒体を密封したジャケットを配置したことを特徴とする、基板加熱処理用均温プレート。

IPC (3)：

B05C 9/14 ,  G02B 5/20 101 ,  H01L 21/027

FI (3)：

B05C 9/14 ,  G02B 5/20 101 ,  H01L 21/30 567

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 基板加熱装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-166231   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平4-259209
  
• 被処理物用被膜焼き付け処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-352572   Applicant：東京応化工業株式会社
• 電磁誘導加熱器
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-156518   Applicant：ハイデック株式会社