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J-GLOBAL ID:200903068389092290

ペロブスカイト型酸化物とその製造方法、圧電体膜、圧電素子、液体吐出装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 柳田 征史 ,  佐久間 剛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008005314
Publication number (International publication number):2008195603
Application date: Jan. 15, 2008
Publication date: Aug. 28, 2008
Summary:
【課題】特に非鉛系に有効な圧電性能に優れたペロブスカイト型酸化物を提供する。【解決手段】下記一般式(PX)で表される組成を有するペロブスカイト型酸化物の製造方法において、下記式(1)〜(3)の関係を充足する条件で、組成を決定する。 A(B,C)O3・・・(PX)(式(PX)中、A:Aサイト元素であり、Biを主成分とする少なくとも1種の金属元素、B,C:Bサイト元素であり、各々1種又は複数種の金属元素、Oは酸素原子。B及びCは互いに異なる組成である。)、 0.98<TF(PX)<1.01・・・(1)、 TF(ABO3)>1.0・・・(2)、 TF(ACO3)<1.0・・・(3)(式(1)〜(3)中、TF(PX)は上記一般式(PX)で表される酸化物の許容因子、TF(ABO3)及びTF(ACO3)はそれぞれ()内に記載の酸化物の許容因子である。)【選択図】なし
Claim (excerpt):
下記一般式(PX)で表される組成を有するペロブスカイト型酸化物の製造方法において、下記式(1)〜(3)の関係を充足する条件で、組成を決定することを特徴とするペロブスカイト型酸化物の製造方法。 A(B,C)O3・・・(PX) (式(PX)中、A:Aサイト元素であり、Biを主成分とする少なくとも1種の金属元素、B,C:Bサイト元素であり、各々1種又は複数種の金属元素、Oは酸素原子。B及びCは互いに異なる組成である。 0.98<TF(PX)<1.01・・・(1)、 TF(ABO3)>1.0・・・(2)、 TF(ACO3)<1.0・・・(3) (式(1)〜(3)中、TF(PX)は上記一般式(PX)で表される酸化物の許容因子、TF(ABO3)及びTF(ACO3)はそれぞれ()内に記載の酸化物の許容因子である。)
IPC (11):
C01G 29/00 ,  H01L 41/09 ,  H01L 41/24 ,  H01L 41/187 ,  H01L 41/18 ,  C01G 49/00 ,  C01G 51/00 ,  C01B 33/12 ,  C04B 35/00 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055
FI (13):
C01G29/00 ,  H01L41/08 C ,  H01L41/08 J ,  H01L41/22 A ,  H01L41/18 101B ,  H01L41/18 101J ,  H01L41/18 101Z ,  C01G49/00 A ,  C01G51/00 A ,  C01B33/12 C ,  C01B33/12 A ,  C04B35/00 J ,  B41J3/04 103A
F-Term (41):
2C057AF51 ,  2C057AG44 ,  2C057BA04 ,  2C057BA14 ,  4G002AA06 ,  4G002AB01 ,  4G002AE05 ,  4G030AA10 ,  4G030AA11 ,  4G030AA12 ,  4G030AA13 ,  4G030AA15 ,  4G030AA16 ,  4G030AA20 ,  4G030AA26 ,  4G030AA27 ,  4G030AA28 ,  4G030AA30 ,  4G030AA34 ,  4G030AA36 ,  4G030AA37 ,  4G030AA43 ,  4G030BA10 ,  4G030CA01 ,  4G030CA08 ,  4G030GA01 ,  4G030GA09 ,  4G048AA03 ,  4G048AB01 ,  4G048AC01 ,  4G048AD02 ,  4G048AE05 ,  4G072AA38 ,  4G072BB09 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH33 ,  4G072JJ09 ,  4G072NN30 ,  4G072TT30 ,  4G072UU30
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1) Cited by examiner (6)
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