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J-GLOBAL ID:200903068646394324
機能素子及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005205973
Publication number (International publication number):2006054448
Application date: Jul. 14, 2005
Publication date: Feb. 23, 2006
Summary:
【課題】 素子特性の劣化を招くことなく有機材料を機能膜として用いた機能素子を形成する。【解決手段】 信号読出回路3、5、7が形成された基板1の上に有機材料を含む光電変換膜14、19、24を積層し該光電変換膜の上に電極膜15、20、25及び絶縁膜16、21、26を積層する光電変換膜積層型固体撮像素子の製造方法であって、絶縁膜16、21、26を積層するときの基板1の基板温度を、電極膜15、20、25の材料によって変化する前記有機材料の結晶化温度より低くなるように制御する。これにより、光電変換特性を劣化させることなく、絶縁膜を成膜することができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
基板上に有機材料を含む機能膜と、電極膜と、絶縁膜とを形成する機能素子の製造方法であって、
前記絶縁膜の形成工程が、前記基板の基板温度Tを、
Tgを前記有機材料のガラス転移温度、ΔE1を前記電極膜及び前記絶縁膜を前記機能膜に積層しない状態で測定した前記有機材料の結晶化の活性化エネルギー、ΔE2を前記機能膜上に前記電極膜を形成した状態で測定した前記有機材料の結晶化の活性化エネルギーとしたとき、
T≦Tg×(ΔE2/ΔE1)
に制御して実施される機能素子の製造方法。
IPC (2):
FI (2):
H01L31/08 T
, H01L27/14 E
F-Term (29):
4M118BA07
, 4M118BA14
, 4M118CA14
, 4M118CA15
, 4M118CA32
, 4M118CA34
, 4M118CB05
, 4M118CB14
, 4M118CB20
, 4M118FA06
, 4M118FA08
, 4M118FA33
, 4M118GC07
, 5F088AB11
, 5F088BA18
, 5F088BB03
, 5F088CB03
, 5F088CB07
, 5F088CB14
, 5F088CB15
, 5F088CB18
, 5F088EA04
, 5F088FA03
, 5F088FA04
, 5F088GA02
, 5F088GA04
, 5F088HA05
, 5F088KA08
, 5F088LA03
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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特開昭58-103165号公報
-
特許第3405099号公報
-
イメージセンサ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-271555
Applicant:日本放送協会
-
層間絶縁膜の形成方法及び半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-072252
Applicant:キヤノン販売株式会社, 株式会社半導体プロセス研究所
-
層間絶縁膜の形成方法、化学的気相成長装置、及び半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-079828
Applicant:キヤノン販売株式会社, 株式会社半導体プロセス研究所
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