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J-GLOBAL ID:200903068717199420

経頭蓋磁気刺激システムおよび方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 藤田 和子 ,  佐藤 武史
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2008516502
Publication number (International publication number):2008543416
Application date: Jun. 15, 2006
Publication date: Dec. 04, 2008
Summary:
【課題】経頭蓋磁気刺激のシステムおよび方法、前記システムがヘルメットを含んで、位置設定部分、刺激装置および冷却方式を開示する。【解決手段】上記ヘルメットは、深い脳磁気刺激のためのコイルを備える。上記コイルは、基底部およびリターン部を有し、それらは突出リターン部および接触リターン部を有する。上記コイルは、上記脳の部分の予想外の刺激を最小化するように設計され、一方で、表面電荷の蓄積を縮小させる。上記コイルは、上記電場を特定の深いニューロン組織に集中させるために、いくつかの位置、相異する時間に刺激される。一部の実施例では、マルチチャネルシステムが使用され、他の実施例では、制御装置は1チャネルシステムによって使用される。本発明は、上記脳の皮質領の刺激を最小化すると共に、非同時に個々のコイル部材、複合コイルを刺激して深い脳領域の中での焦点性刺激を可能にする方法を提供する。【選択図】図1A
Claim (excerpt):
ニューロン組織を活性化する方法であって、 標的領域に対する電気刺激を送出するための少なくとも1つのコイルを提供するステップと、 前記少なくとも1つのコイルは、所定方向の電流を伝達するように設計された個々の部材からなり、 非同時に少なくとも前記個々の部材のいくつかを活性化するステップと、を有することを特徴とする方法。
IPC (1):
A61N 2/00
FI (1):
A61N1/42 Z
F-Term (7):
4C106AA03 ,  4C106AA06 ,  4C106AA07 ,  4C106BB21 ,  4C106CC15 ,  4C106FF12 ,  4C106FF16
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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