Pat
J-GLOBAL ID：200903068758025399

露光装置

Inventor：
宮井 恒夫

About 宮井 恒夫


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 立石 篤司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995081826
Publication number (International publication number)：1996250409
Application date： Mar. 14, 1995
Publication date： Sep. 27, 1996
Summary：
【要約】【目的】 基板ホルダ上に存在する異物の存在により半導体素子等の歩留まりを低下させることなく、しかもスループットを向上させる。【構成】 保管部104に清浄な基板ホルダ44を予め保管しておくことにより、この保管部104に保管されたホルダ44をロボットハンド72及び搬送アーム92によってXステージ42の所まで搬送し、ステージ44上の汚れた基板ホルダ44と交換する。これによれば、短時間の装置の停止中にステージ42上の汚れたホルダ44と清浄なホルダ44とが交換されることから、長時間装置を停止することなく、ホルダ44を常時清浄な状態に維持する事が可能となる。
Claim (excerpt)：
マスクに形成されたパターンを基板ホルダ上の感光基板に転写する露光装置であって、前記基板ホルダを着脱可能に支持するステージと;前記基板ホルダを前記ステージに対して着脱する着脱機構と;前記基板ホルダを保管可能な保管部と;前記着脱機構及び前記保管部のそれぞれと前記基板ホルダの受け渡しを行なうとともに、前記着脱機構と前記保管部との間で前記基板ホルダの搬送を行なうホルダ搬送系とを有する露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68
FI (3)：
H01L 21/30 514 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 A
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (8)
  • 特開昭63-204723
  • 露光装置及び方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-324383   Applicant：キヤノン株式会社
  • 特開平2-271514
Show all
Cited by examiner (5)
  • 特開昭63-204723
  • 露光装置及び方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-324383   Applicant：キヤノン株式会社
  • 特開平2-271514
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM