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J-GLOBAL ID：200903068935071304

光学的素子及びその製造方法

Inventor：
浅井 伸利

About 浅井 伸利


Applicant, Patent owner：
ソニー株式会社

About ソニー株式会社


Agent (1)： 逢坂 宏
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996087216
Publication number (International publication number)：1997260064
Application date： Mar. 15, 1996
Publication date： Oct. 03, 1997
Summary：
【要約】【課題】 アノードの抵抗を低下させた整流性の高い光学的素子及びその製造方法を提供すること。【解決手段】 基板6とITO透明電極5との間に導電層9を設け、この導電層9の側面9aが基体6側にかけてその膜厚が減少するように傾斜させて形成し、この上にITO透明電極5、ホール輸送層4、発光層3、電子輸送層2及び金属輸送層1を積層して素子を作製する。
Claim (excerpt)：
基体上に電極と有機層とがこの順に積層されてなる光学的素子において、前記電極よりも導電性の高い導電層が前記基体と前記電極との間にこの電極に接して電極の一部分として設けられ、前記導電層の側面での層厚が前記基体側にかけて減少するように前記側面が前記基体側へ傾斜していることを特徴とする光学的素子。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (17)
  • 特開平4-254887
  • 特開平2-165592
  • 特開平2-281237
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