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J-GLOBAL ID：200903068949988294

感光性組成物およびそれを用いたパターン形成方法

Inventor： 野口 有一
Applicant, Patent owner： 東芝ケミカル株式会社
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997343030
Publication number (International publication number)：1999174680
Application date： Dec. 12, 1997
Publication date： Jul. 02, 1999
Summary：

【要約】【課題】 アルカリ水溶液でパターン形成が可能なポジ型の感光性組成物であって、膜特性、寸法精度、解像度等に優れたポジ型の感光性組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 感光性組成物は、(A)【化1】(ただし、R1 、R2 は二価の芳香族基を表す)で表される繰返し単位を有するポリマー、(B)官能価 2以上のビニルエーテル化合物、および(C)光酸発生剤を含有する。

Claim (excerpt)：

(A)【化1】(ただし、R1 、R2 は二価の芳香族基を表す)で表される繰返し単位を有するポリマー、(B)官能価 2以上のビニルエーテル化合物、および(C)光酸発生剤を含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/037 ,  H01L 21/027

FI (3)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/037 ,  H01L 21/30 502 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭56-027140
  
• 耐熱性ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いた感光性基材ならびにパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-310147   Applicant：日東電工株式会社
• ポジ型感光性組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-018793   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 特開昭56-027140